[发明专利]一种选择性光降解酸性橙分子印迹聚合物及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种选择性光降解酸性橙分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)将五水合硝酸铋、溴化钾、三水合硝酸铜和聚乙烯吡咯烷酮混合后，加入乙二醇中，在温度为100～200℃下反应6～12h，将反应产物洗涤、干燥，制得溴氧化铋微球；

2)将酸性橙及步骤1)制得的溴氧化铋微球加入到水中，室温下搅拌30min，得到模板-载体复合物体系；

3)将功能单体、交联剂、引发剂及三氯甲烷溶液混合后，加入到步骤2)制得的模板-载体复合物体系中，通入氮气，加热回流进行聚合反应，反应结束后，通过离心分离出反应液中的固态聚合物；

4)将步骤3)制得的固态聚合物酸洗脱后真空干燥处理，制得选择性光降解酸性橙分子印迹聚合物。

2.根据权利要求1所述的选择性光降解酸性橙分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，步骤1)中，五水合硝酸铋、溴化钾、三水合硝酸铜、聚乙烯吡咯烷酮和乙二醇的用量比为(10～40)mg：(5～50)mg：(2～8)mg：(0.5～3)g：(40～100)mL。

3.根据权利要求1所述的选择性光降解酸性橙分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，步骤1)中，将反应物离心洗涤、干燥具体操作为：交替使用超纯水及乙醇将反应产物洗涤至中性，在干燥温度为20～60℃，压强为0.02～0.08MPa的压力下干燥处理4～10h。

4.根据权利要求1所述的选择性光降解酸性橙分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，步骤2)中，酸性橙、溴氧化铋微球及水的用量比为(10～50)mg：(50～200)mg：(5～50)mL。

5.根据权利要求1所述的选择性光降解酸性橙分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，步骤3)中，功能单体为吡咯，交联剂为三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯，引发剂为偶氮二异丁腈；

且功能单体、交联剂、引发剂及三氯甲烷溶液的用量比为(10～200)μL：(50～200)μL：(10～75)mg：(0.5～3)mL。

6.根据权利要求1所述的选择性光降解酸性橙分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，步骤3)中，通入氮气的时间为5～30min，加热回流的温度为45～100℃，聚合反应时间为6～72h。

7.根据权利要求1所述的选择性光降解酸性橙分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，步骤4)中，酸洗脱所用的洗脱液是乙醇与乙酸的混合液，混合液中乙醇与乙酸的体积比为90:10～99:1；真空干燥温度为20～60℃，压强为0.02～0.08MPa，干燥时间为4～7h。

8.采用权利要求1～7中任意一项所述的制备方法制得的选择性光降解酸性橙分子印迹聚合物，其特征在于，选择性光降解酸性橙分子印迹聚合物的粒径为4～10μm。

9.权利要求8所述的选择性光降解酸性橙分子印迹聚合物作为催化剂的应用，其特征在于，该催化剂能够选择性光降解水体系中的酸性橙。

10.如权利要求9所述的应用，其特征在于，光降解是在可见光下，对酸性橙的降解率超过85％。