[发明专利]图案化和泛光照明的投射

权利要求书

1.一种光电子装置，包括：

散热器，所述散热器被成形为限定：基部；在所述基部上方的第一高度处的第一平台；以及在所述基部上方的不同于所述第一高度的第二高度处的位于所述第一平台旁边的第二平台；

第一单片发射器阵列，所述第一单片发射器阵列安装在所述第一平台上并被配置为发射第一光束；

第二单片发射器阵列，所述第二单片发射器阵列安装在所述第二平台上并被配置为发射第二光束；以及

光学元件，所述光学元件被配置为将所述第一光束和所述第二光束两者导向目标区域。

2.根据权利要求1所述的光电子装置，其中所述散热器包括金属。

3.根据权利要求1所述的光电子装置，其中所述散热器包括陶瓷材料。

4.根据权利要求1所述的光电子装置，其中所述散热器包括中心部分，所述中心部分的热导率比围绕所述中心部分的周边部分的热导率大。

5.根据权利要求1所述的光电子装置，其中所述散热器包括一体式材料件，所述一体式材料件被成形用于限定所述基部以及所述第一平台和所述第二平台。

6.根据权利要求1所述的光电子装置，其中所述散热器包括第一散热器材料件和第二散热器材料件，所述第一散热器材料件被成形用于限定所述基部，所述第二散热器材料件安装在所述第一散热器材料件上并限定所述第二平台。

7.根据权利要求1所述的光电子装置，其中所述第一单片发射器阵列和所述第二单片发射器阵列分别包括第一半导体基板和第二半导体基板以及分别设置在所述第一半导体基板和所述第二半导体基板上的第一多个垂直腔面发射激光器(VCSEL)和第二多个VCSEL。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的光电子装置，其中所述散热器相对于所述光学元件定位，使得所述第一单片发射器阵列位于所述光学元件的后焦平面处，而所述第二单片发射器阵列从所述后焦平面轴向移位。

9.根据权利要求8所述的光电子装置，其中所述光学元件被配置为聚焦所述第一光束以便将图案化辐射投射到所述目标区域上，并且使所述第二光束散焦以便将泛光辐射投射到所述目标区域上。

10.根据权利要求8所述的光电子装置，其中所述光学元件被配置为聚焦所述第一光束以便以第一聚焦质量将第一图案化辐射投射到所述目标区域上，并且使所述第二光束散焦以便以不同于所述第一聚焦质量的第二聚焦质量将第二图案化辐射投射到所述目标区域上。

11.根据权利要求10所述的光电子装置，其中所述第一光束以第一散度朝向所述目标区域投射，并且所述第二光束以大于所述第一散度的第二散度朝向所述目标区域投射。

12.一种用于深度映射的方法，包括：

以第一散度将第一辐射图案投射到目标区域上；

以不同于所述第一散度的第二散度将第二辐射图案投射到所述目标区域上；

捕获投射到所述目标区域上的所述第一图案和所述第二图案的相应的第一图像和第二图像；以及

响应于所述第一图像和所述第二图像中的所述第一图案和所述第二图案的相应位移以及响应于所述第一图像和所述第二图像中的所述第二图案相对于所述第一图案的散焦来计算所述目标区域中的点的深度坐标。

13.根据权利要求12所述的方法，其中投射所述第一图案和所述第二图案包括施加光学元件以将分别由第一发射器阵列和第二发射器阵列发射的辐射的光束导向所述目标区域，所述第一发射器阵列和所述第二发射器阵列安装在相对于所述光学元件的后焦平面的不同位置处。