[发明专利]单片式超短焦距的成像透镜、制备方法和近眼穿戴式系统有效

专利信息
申请号: 202110533974.6 申请日: 2021-05-17
公开(公告)号: CN113311518B 公开(公告)日: 2023-03-21
发明(设计)人: 尹勇健 申请(专利权)人: 广州市焦汇光电科技有限公司
主分类号: G02B3/02 分类号: G02B3/02;G02B27/00;G02B27/01
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 赵娜
地址: 510000 广东省广州市番*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 单片 超短 焦距 成像 透镜 制备 方法 穿戴 系统
【权利要求书】:

1.一种单片式超短焦距的成像透镜,其特征在于,基于折射产生像差、低折射率,大阿贝数材料像差小、反射无像差以及平行无焦距透镜无像差的原理设置一片凹凸透镜,对凹凸透镜的两个曲面进行非球面设计和优化,得到凹面R1和凸面R2的比值为0.85≤R1/R2≤0.95,凹凸透镜开口半径D与凸面R2的比值为0.7≤D/R2≤0.85,凹凸透镜的最大厚度H与最小厚度h的比值为1.25≤H/h≤1.35,入射光线从凹面进入凹凸透镜,在凹面产生折射,在凹凸透镜内部进行反射,反射的光线在凸面折射后出射成像至目标面,其中,所述凹凸透镜为一片透镜,一面为凹面,另一面为凸面。

2.根据权利要求1所述的一种单片式超短焦距的成像透镜,其特征在于,所述凹面和凸面均镀有功能性光学膜层。

3.根据权利要求2所述的一种单片式超短焦距的成像透镜,其特征在于,所述光学膜层包含半反半透膜、偏振膜、全息或衍射膜。

4.根据权利要求2或3所述的一种单片式超短焦距的成像透镜,其特征在于,所述凹面和凸面镀有不同的光学膜层,入射光线经折射后在凹凸透镜内部产生一次或多次反射。

5.根据权利要求1所述的一种单片式超短焦距的成像透镜,其特征在于,所述凹凸透镜的折射率为1.45≤N≤1.51,阿贝数55≤d≤69。

6.一种单片式超短焦距的成像透镜制备方法,其特征在于,具体包括以下步骤:

S1,设定焦距数值、入射光源参数、一片凹凸透镜、成像目标面相关参数、镜头畸变设定值;

S2,基于折射产生像差、低折射率,大阿贝数材料像差小、反射无像差以及平行无焦距透镜无像差的原理,对凹凸透镜的两个曲面进行非球面设计和优化,降低凹凸透镜的折射权重,提高凹凸透镜的反射权重;

对凹凸透镜的两个曲面进行非球面设计和优化,具体包括以下步骤:设凹面的表达式为其中,c1是凹面在中心处的曲率,k1为非球面系数,ai1为对凹面的面形进行修正的多项式系数,设凸面的表达式为

其中,c2是凸面在中心处的曲率,k2为非球面系数,ai2为对凸面的面形进行修正的多项式系数;

S3,通过软件模拟和调整,获取凹凸透镜的最优参数范围,制备得到超短焦距的成像透镜;

步骤S3中凹凸透镜的最优参数范围具体指的是:

凹面R1和凸面R2的比值为0.85≤R1/R2≤0.95,凹凸透镜开口半径D与凸面R2的比值为0.7≤D/R2≤0.85,凹凸透镜的最大厚度H与最小厚度h的比值为1.25≤H/h≤1.35;

对凹面和凸面的表达式输入不同参数取值,得到对应的凹面数据和凸面数据,获得凹面R1除以凸面R2比值,凹凸透镜开口半径D与凸面R2的比值,凹凸透镜的最大厚度H与最小厚度h的比值,最终得到表格形式的原始数据;

根据原始数据对应凹凸透镜的成像质量、畸变值、焦距的相关要求,从原始数据中剔除不符要求的数据,得到优化数据;

从优化数据中抽样获取200组数据,按9:1的比例分为训练数据和验证数据,根据训练数据建立凹凸透镜的智能模型,输出凹凸透镜的调整方案,验证数据输入智能模型,对智能模型进行验证;

在制备超短焦距的成像透镜的过程中,用户输入成像质量、畸变值、焦距的相关参数取值,获得若干成像透镜的各项参数方案。

7.根据权利要求6所述的一种单片式超短焦距的成像透镜制备方法,其特征在于,所述凹凸透镜的凹面和凸面均镀有光学膜层,所述光学膜层包含半反半透膜、偏振膜、全息或衍射膜。

8.根据权利要求6所述的一种单片式超短焦距的成像透镜制备方法,其特征在于,所述凹凸透镜的折射率为1.45≤N≤1.51,阿贝数55≤d≤69。

9.一种近眼穿戴式系统,其特征在于,包括权利要求1所述的一种单片式超短焦距的成像透镜和显示屏,单片式超短焦距的成像透镜与显示屏的中心线重合,在单片式超短焦距的成像透镜设置凹面中心截止镀膜区,凹面中心截止镀膜区的形状与所述显示屏的形状为共轭关系,所述凹面中心截止镀膜区设置有阈值K,0.1K0.25。

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