[发明专利]一种可光固化成型的散射介质、光电器件及其制备方法在审
申请号: | 202110537197.2 | 申请日: | 2021-05-18 |
公开(公告)号: | CN113354762A | 公开(公告)日: | 2021-09-07 |
发明(设计)人: | 宋世超;曹耀宇 | 申请(专利权)人: | 暨南大学 |
主分类号: | C08F122/14 | 分类号: | C08F122/14;C08F2/48;C08K9/06;C08K3/22;H01L31/18 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 尹凡华 |
地址: | 510630 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光固化 成型 散射 介质 光电 器件 及其 制备 方法 | ||
1.一种散射介质,其特征在于,包括:纳米晶颗粒、处理剂和光固化材料;所述处理剂选自表面活性剂和/或偶联剂。
2.根据权利要求1所述的散射介质,其特征在于,所述纳米晶颗粒选自硅氧化物、钛氧化物、铝氧化物、铁氧化物、钨氧化物、钒氧化物、铟锡氧化物、氮化硅、氟化镁或硒化锌中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的散射介质,其特征在于,所述纳米晶颗粒的粒径为1-500nm;优选的,所述纳米晶颗粒的粒径为1-200nm。
4.根据权利要求1所述的散射介质,其特征在于,所述处理剂选自离子型表面活性剂、非离子型表面活性剂、硅烷偶联剂、钛酸酯偶联剂或铝酸酯偶联剂中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的散射介质,其特征在于,所述光固化材料包括光敏性高分子材料。
6.根据权利要求5所述的散射介质,其特征在于,所述光固化材料还包括光引发剂、光敏剂或阻聚剂中的至少一种。
7.权利要求1-6中任一项所述的散射介质的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)将处理剂与纳米晶颗粒混合进行表面修饰,得到表面修饰后的纳米晶颗粒;
(2)将步骤(1)制得的表面修饰后的纳米晶颗粒分散在光固化材料中,得到所述散射介质。
8.一种光电器件的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)制作含有控制电路的衬底;
(2)将权利要求1-6中任一项所述的散射介质涂覆在所述衬底表面;
(3)对所述散射介质进行光固化一次成型,得到所述光电器件。
9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)中所述光电器件为平面型光电器件或立体型光电器件。
10.一种光电器件,其特征在于,由权利要求8或9所述的制备方法制得。
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