[发明专利]一种非诊断目的基于纳米复合材料的LAPS传感器检测GPC3方法有效

专利信息
申请号: 202110537812.X 申请日: 2021-05-18
公开(公告)号: CN113238040B 公开(公告)日: 2022-05-31
发明(设计)人: 李桂银;李文湛;冯华富;陈伟;梁晋涛;周治德 申请(专利权)人: 桂林电子科技大学
主分类号: G01N33/537 分类号: G01N33/537;G01N33/543
代理公司: 桂林市华杰专利商标事务所有限责任公司 45112 代理人: 刘梅芳
地址: 541004 广西*** 国省代码: 广西;45
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 诊断 目的 基于 纳米 复合材料 laps 传感器 检测 gpc3 方法
【权利要求书】:

1.一种非诊断目的基于纳米复合材料的LAPS传感器检测GPC3的方法,其特征在于,按以下步骤进行:

步骤一:血红素/还原型氧化石墨烯/铂@钯纳米材料H-rGO-Pt@Pd NPs的制备

(1)称取30mg氧化石墨烯GO,加入30mL超纯水,超声破碎;然后加入10 mg 抗坏血酸AA,搅拌12h,得到还原型氧化石墨烯rGO;

(2)将30mg 固体血红素Hemin溶解于10μL氨水,加入30mL超纯水;将Hemin溶液和rGO溶液混合,然后加入8μL水合肼溶液,涡旋10min;将混合溶液在60℃水浴4h,然后以12000 r/min离心 10min,去掉上清液,洗涤、烘干,得到血红素/还原型氧化石墨烯H-rGO复合纳米材料;

(3) 将2mL 0.2% 的邻苯二甲酸二乙二醇二丙烯酸酯PDDA溶液和5mL 0.2mol/L的NaCl溶液加入到10mL 0.5mg/mL的H-rGO溶液中,搅拌反应12h,离心、清洗,得到PDDA修饰的H-rGO溶液;将2mL 20 mmol/L的Na2PtCl6溶液和2mL 20 mmol/L的Na2PdCl4溶液加入到PDDA修饰的0.5 mg/mL的H-rGO溶液中,搅拌反应12h;然后向溶液中加入10mL 乙二醇EG溶液进行混合,用1mol/L 的NaOH溶液调节混合溶液的pH值到12,140℃回流反应4h;离心、清洗,得到H-rGO-Pt@Pd NPs复合纳米材料;

步骤二:LAPS敏感单元的构建

(1)将LAPS芯片放置乙醇溶液中洗涤10min,放置在丙酮溶液中超声洗涤10min,再放置超纯水中超声洗涤10min,吹干;

(2)将预处理后的芯片表面滴加6μL 1.0 mol/L 的NaOH溶液,30min后用纯水清洗;然后滴加6μL质量分数为1%的氨基硅烷化试剂APTES溶液,在4°C冰箱放置12-24h,用纯水洗涤三次;然后滴加6 μL质量分数为2.5%戊二醛溶液至芯片表面,偶联30min;

(3)在上述条件下制备的芯片上滴加6μL H-rGO-Pt@Pd NPs溶液,25°C孵育3h,用纯水清洗干净;

(4)在上述芯片上滴加6μL浓度为5.0 μmol/L GPC3Apt溶液,25°C孵育2h后清洗干净,然后滴加6μL质量分数为1%的BSA溶液,30min后清洗,晾干,得到LAPS芯片敏感单元界面;

步骤三:GPC3工作曲线的绘制

(1)在LAPS 芯片敏感单元界面滴加6μL GPC3溶液,25°C孵育1h后取出,制成LAPS传感器;

(2)将上述的LAPS传感器浸入到pH值为6.5、浓度为2.0mol/L的PBS缓冲液里面,在外加偏置电压作用下,由于GPC3Apt与GPC3之间的特异性识别作用引起LAPS敏感单元中的电势之间的变化,使得LAPS传感器的I-V曲线产生相应的偏移,采用LabVIEW平台记录不同GPC3浓度的LAPS传感器的电压偏移量,绘制工作曲线;

步骤四:待测样本中GPC3的检测

(1)在步骤二得到的LAPS 芯片敏感单元滴加6μL待测样品溶液,25°C孵育1h后取出,制成LAPS传感器;然后将LAPS传感器浸入到pH值为6 .5、浓度为2.0mol/L的PBS缓冲液,在外加偏置电压作用下,LAPS传感器的I-V曲线产生相应的偏移,采用LabVIEW平台记录LAPS传感器的电压偏移值;

(2)根据步骤三所得到的GPC3的工作曲线,计算待测样品中GPC3的浓度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于桂林电子科技大学,未经桂林电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110537812.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top