[发明专利]带低反射膜的基体及其制造方法有效
申请号: | 202110539021.0 | 申请日: | 2017-11-13 |
公开(公告)号: | CN113391382B | 公开(公告)日: | 2022-12-30 |
发明(设计)人: | 藤井健辅 | 申请(专利权)人: | AGC株式会社 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;C23C14/34 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 杨青;安翔 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反射 基体 及其 制造 方法 | ||
1.一种带低反射膜的基体,其具有透明基体、设置于所述透明基体的一个主面的第1低反射膜、以及设置于所述透明基体的侧面的第2低反射膜,其特征在于,
设置于所述一个主面的第1低反射膜的光反射率R1为0.6%以下,且设置于所述侧面的第2低反射膜的光反射率Rs为2.5%以下、色度a*为0~4、b*为3~9。
2.如权利要求1所述的带低反射膜的基体,其中,在所述透明基体的另一个主面的一部分具有黑色印刷部。
3.如权利要求2所述的带低反射膜的基体,其中,在所述黑色印刷部中,设置于所述一个主面的第1低反射膜的色度a*大于-6且小于6、b*大于-6且小于6。
4.如权利要求1~3中任一项所述的带低反射膜的基体,其中,所述第1低反射膜的光反射率R1为0.5%以下。
5.如权利要求1~3中任一项所述的带低反射膜的基体,其中,设置于所述侧面的低反射膜的光反射率Rs为2%以下。
6.如权利要求1~3中任一项所述的带低反射膜的基体,其中,所述透明基体在所述一个主面和所述侧面具有由防眩处理形成的凹凸形状。
7.如权利要求1~3中任一项所述的带低反射膜的基体,其中,所述透明基体为玻璃基板。
8.如权利要求7所述的带低反射膜的基体,其中,所述玻璃基板为化学强化玻璃。
9.如权利要求8所述的带低反射膜的基体,其中,所述化学强化玻璃的表面压应力为400MPa以上且1200MPa以下。
10.如权利要求9所述的带低反射膜的基体,其中,所述化学强化玻璃的表面压应力层的深度为15μm~60μm。
11.如权利要求1~3中任一项所述的带低反射膜的基体,其中,在第1低反射膜和第2低反射膜中的至少一者的上面还具有防污膜。
12.一种显示装置,其特征在于,具有:
显示器、以及
在该显示器的正面作为正面基板而设置的权利要求1~11中任一项所述的带低反射膜的基体。
13.一种带低反射膜的基体的制造方法,其为以隔着间隔物而具有规定的间隔的方式将透明基体固定在用于固定该透明基体的承载基板上、通过物理蒸镀法在所述透明基体的一个主面形成第1低反射膜并且同时在所述透明基体的侧面形成第2低反射膜的带低反射膜的基体的制造方法,其特征在于,
设置于所述一个主面的第1低反射膜的光反射率R1为0.6%以下,且设置于所述侧面的第2低反射膜的光反射率Rs为2.5%以下、色度a*为0~4、b*为3~9。
14.如权利要求13所述的带低反射膜的基体的制造方法,其中,所述物理蒸镀法为溅射。
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