[发明专利]一种光纤化学腐蚀方法

权利要求书

1.一种光纤化学腐蚀方法，其特征在于，包括以下步骤：

1）采用夹具盘将待腐蚀光纤批量定位；

2）驱动夹具盘下降，将待腐蚀光纤的待腐蚀部位下降至硫酸液池内进行第一次腐蚀，硫酸液中硫酸的质量百分比为90%~98%，腐蚀温度为130±2℃，腐蚀时间为5~10分钟；

3）驱动夹具盘移动，将待腐蚀光纤从硫酸液池内移出，移动至清水池进行清洗；

4）清洗完成后的待腐蚀光纤被夹具盘移动至氢氟酸液池的上方，夹具盘下降，待腐蚀光纤的待腐蚀部位下降至氢氟酸液池内进行第二次腐蚀，氢氟酸液内氢氟酸的质量百分比为30~35%，腐蚀温度为29±2℃，腐蚀时间为30~45分钟；

5）腐蚀完成后的光纤利用夹具盘被移动至清洗池进行清洗。

2.根据权利要求1所述的光纤化学腐蚀方法，其特征在于：步骤1）中待腐蚀光纤在进行腐蚀前，先置入离子风机下进行吹淋3~6小时。

3.根据权利要求1所述的光纤化学腐蚀方法，其特征在于：步骤4）中氢氟酸液池内的氢氟酸液上附着有一层植物油层，植物油层的厚度为0.1~0.3mm。

4.植物油的作用是减少酸液挥发，降低空气污染。

5.根据权利要求1所述的光纤化学腐蚀方法，其特征在于：步骤1）中采用夹具盘内设有多个用于定位待腐蚀光纤的定位槽，待腐蚀光纤的待腐蚀部位伸出夹具盘。

6.根据权利要求4所述的光纤化学腐蚀方法，其特征在于：多个夹具盘安装完多根光纤后批量安装到夹具盘支撑架上，夹具盘支撑架与机械臂连接，机械臂连接有控制台，控制台包括温控系统、探测系统和运动系统，运动系统和探测系统都与机械臂连接。

7.根据权利要求5所述的光纤化学腐蚀方法，其特征在于：步骤2）的硫酸液池和步骤4）的氢氟酸液池内都设有用于控制液体温度的温控导管，温控系统与温控导管连接。

8.根据权利要求5所述的光纤化学腐蚀方法，其特征在于：步骤3）和步骤5）中的清洗池内设有超声波系统。