[发明专利]低温绝缘超导电缆径向分析系统及方法

权利要求书

1.一种低温绝缘超导电缆径向分析系统，其特征在于，所述系统包括：

定向切割设备，用于采用与待检测的低温绝缘超导电缆的走向方向垂直的切割方向截取待检测的低温绝缘超导电缆的一段，所述待检测的低温绝缘超导电缆由外到内依次由低温容器层、绝缘层和导体层构成，所述低温为液氮温区；

截面采集机构，与所述定向切割设备连接，用于在所述定向切割设备完成一次切割动作后，对截取的一段低温绝缘超导电缆的截面执行图像信号采集动作，以获得对应的超导截面图像；

初次处理设备，与所述截面采集机构连接，用于对接收到的超导截面图像执行仿射变换处理，以获得对应的初次处理图像；

二次处理设备，与所述初次处理设备连接，用于对接收到的初次处理图像执行引导滤波处理，以获得对应的二次处理图像；

末次处理设备，与所述二次处理设备连接，用于对接收到的二次处理图像执行基于空域微分法的图像内容锐化处理，以获得对应的末次处理图像；

内容分辨设备，与所述末次处理设备连接，用于基于所述待检测的低温绝缘超导电缆的绝缘层的颜色成像特征识别所述末次处理图像中的绝缘层分布区域，以及基于所述待检测的低温绝缘超导电缆的导体层的颜色成像特征识别所述末次处理图像中的导体层分布区域；

中心检测设备，与所述内容分辨设备连接，用于基于所述绝缘层分布区域的边缘形状检测所述绝缘层分布区域的中心位置，并获取在所述末次处理图像最接近所述绝缘层分布区域的中心位置的像素以作为第一参考像素，还用于基于所述导体层分布区域的边缘形状检测所述导体层分布区域的中心位置，并获取在所述末次处理图像最接近所述导体层分布区域的中心位置的像素以作为第二参考像素；

分布判断设备，与所述中心检测设备连接，用于在所述末次处理图像中识别所述第一参考像素和所述第二参考像素之间最短曲线经过的像素的数量以作为间距像素数量；

其中，所述分布判断设备还用于在识别到的间距像素数量小于等于设定数量限量时，发出径向等距信号；

其中，在所述末次处理图像中识别所述第一参考像素和所述第二参考像素之间最短曲线经过的像素的数量以作为间距像素数量包括：获取在所述末次处理图像中所述第一参考像素和所述第二参考像素之间的各条曲线，对每一条曲线经过的像素的数量进行测量，将经过的像素的数量最少的曲线作为所述最短曲线，获取所述最短曲线经过的像素的数量以作为间距像素数量。

2.如权利要求1所述的低温绝缘超导电缆径向分析系统，其特征在于：

基于所述待检测的低温绝缘超导电缆的绝缘层的颜色成像特征识别所述末次处理图像中的绝缘层分布区域，以及基于所述待检测的低温绝缘超导电缆的导体层的颜色成像特征识别所述末次处理图像中的导体层分布区域包括：所述待检测的低温绝缘超导电缆的绝缘层的颜色成像特征与所述待检测的低温绝缘超导电缆的导体层的颜色成像特征不同。

3.如权利要求2所述的低温绝缘超导电缆径向分析系统，其特征在于：

基于所述待检测的低温绝缘超导电缆的绝缘层的颜色成像特征识别所述末次处理图像中的绝缘层分布区域，以及基于所述待检测的低温绝缘超导电缆的导体层的颜色成像特征识别所述末次处理图像中的导体层分布区域还包括：将所述末次处理图像中与所述待检测的低温绝缘超导电缆的绝缘层的颜色成像特征的相似程度超限的图像区域作为所述末次处理图像中的绝缘层分布区域，以及将所述末次处理图像中与所述待检测的低温绝缘超导电缆的导体层的颜色成像特征的相似程度超限的图像区域作为所述末次处理图像中的导体层分布区域。

4.如权利要求3所述的低温绝缘超导电缆径向分析系统，其特征在于：

所述内容分辨设备包括第一检测子设备和第二检测子设备；

其中，所述第一检测子设备用于基于所述待检测的低温绝缘超导电缆的绝缘层的颜色成像特征识别所述末次处理图像中的绝缘层分布区域；

其中，所述第二检测子设备用于基于所述待检测的低温绝缘超导电缆的导体层的颜色成像特征识别所述末次处理图像中的导体层分布区域。

5.如权利要求4所述的低温绝缘超导电缆径向分析系统，其特征在于：

所述分布判断设备还用于在识别到的间距像素数量大于所述设定数量限量时，发出径向偏差信号。