[发明专利]一种Bi修饰g-C3 在审
| 申请号： | 202110543359.3 | 申请日： | 2021-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN113198514A | 公开（公告）日： | 2021-08-03 |
| 发明（设计）人： | 滕飞;袁晨;梁舒予;阮万生;郝唯一 | 申请（专利权）人： | 南京信息工程大学 |
| 主分类号： | B01J27/24 | 分类号： | B01J27/24;B01J37/10;C01C1/02 |
| 代理公司： | 南京钟山专利代理有限公司 32252 | 代理人： | 蒋厦 |
| 地址： | 210044 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 bi 修饰 base sub | ||
1.一种Bi修饰g-C3N4光催化剂材料，其特征在于：其制备方法包括以下步骤：
(1)将三聚氰胺均匀研磨并放入坩埚中，然后在540℃-560℃的空气中煅烧4h，在空气中的升温速率为4℃/min；之后，将产物在空气中在450℃-550℃下再加热2h，然后获得g-C3N4纳米材料，并标记为CN纳米片；
(2)将Bi(NO3)3·5H2O溶解在HNO3溶液中，然后加入乙二醇并搅拌，然后将PVP添加到溶液中，直到所有固体均被溶解为止；完全溶解后，将一定量的所得CN纳米片加入上述溶液中；
(3)然后，将混合溶液加入到聚四氟乙烯内衬中，150℃-170℃恒温水热反应12小时；反应结束后，自然冷却至室温，离心、洗涤、干燥，产物即为Bi修饰g-C3N4光催化剂材料。
2.根据权利要求1所述的Bi修饰g-C3N4光催化剂材料，其特征在于：三聚氰胺与Bi(NO3)3·5H2O、PVP的质量比为(5-6)：1：(1.5-2)。
3.根据权利要求1所述的Bi修饰g-C3N4光催化剂材料，其特征在于：步骤(2)中，HNO3的浓度为1M，Bi(NO3)3·5H2O与HNO3、乙二醇的质量/体积/体积比为1：(25-30)：(140-160)g/mL/mL。
4.根据权利要求1所述的Bi修饰g-C3N4光催化剂材料，其特征在于：步骤(2)中，加入乙二醇后搅拌10分钟，加入CN纳米片后搅拌30分钟。
5.根据权利要求1所述的Bi修饰g-C3N4光催化剂材料，其特征在于：步骤(2)中，PVP的MW＝24000。
6.根据权利要求1-5任一项所述的Bi修饰g-C3N4光催化剂材料在固氮中的应用。
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