[发明专利]一种金属表面镀制DLC薄膜的方法及其应用

权利要求书

1.一种金属表面镀制DLC薄膜的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：

S1、对基体材料进行预处理；

S2、采用微波等离子体化学气相沉积法在基体材料表面镀制DLC薄膜。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤S1中，基体材料采用金属材料。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述金属材料选自医用不锈钢、钴及其合金、钛及其合金、镍及其合金或镁及其合金。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，预处理包括抛光处理和超声清洗步骤。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤S2中，在基体材料表面镀制类DLC薄膜的工艺参数包括：温度500～1000℃，含CH₄和H₂的气体，所述气体的引入流量为200～400sccm，气体注入时间为5～180分钟，DLC膜的沉积时间为5～180分钟。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，CH₄和H₂的注入比例为5～30：185～390。

7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，气体注入时间优选为5～120分钟。

8.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，DLC膜的沉积时间优选为30～60分钟。

9.一种根据权利要求1-8任一项所述的方法制备得到的金属表面镀制的DLC薄膜。

10.根据权利要求9所述DLC薄膜在制备医用植入材料或医疗器械中的应用。