[发明专利]一种硅晶片批量抛光设备在审

专利信息
申请号: 202110546382.8 申请日: 2021-05-19
公开(公告)号: CN113275988A 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 周勤 申请(专利权)人: 周勤
主分类号: B24B21/04 分类号: B24B21/04;B24B21/18;B24B9/06;B24B47/12;B24B55/03;B24B55/06
代理公司: 合肥中博知信知识产权代理有限公司 34142 代理人: 张加宽
地址: 236200 安徽省阜*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 晶片 批量 抛光 设备
【权利要求书】:

1.一种硅晶片批量抛光设备,其特征在于:包括夹持部件(1)、打磨部件(2)、动力部件(3)和安装架(4);所述安装架(4)上方设置有所述夹持部件(1);所述夹持部件(1)用于夹持硅晶片;所述安装架(4)的上方设置有打磨部件(2);所述打磨部件(2)用于对硅晶片表面进行打磨;所述安装架(4)上设置有所述动力部件(3);所述动力部件(3)用于为打磨部件(2)提供动力;

所述夹持部件(1)包括上夹体(11)、下夹体(12)和一号电动推杆(13);所述上夹体(11)与所述下夹体(12)均为半圆环形柱状结构;所述上夹体(11)的一边与所述下夹体(12)的一边铰接;所述上夹体(11)的另一边与所述下夹体(12)的另一边贴合时所述上夹体(11)内壁与所述下夹体(12)内壁之间形成圆柱状结构;所述上夹体(11)外壁上靠近所述上夹体(11)与所述下夹体(12)铰接处设置有凸台;所述一号电动推杆(13)的伸出端与所述凸台铰接;所述一号电动推杆(13)的缸体通过支架固定连接在所述安装架(4)的底板上;所述下夹体(12)上沿轴线方向上均匀间隔设置有一号通槽(121);所述上夹体(11)上对应所述一号通槽(121)的位置处设置二号通槽(111);所述一号通槽(121)之间形成支撑条(122);所述二号通槽(111)之间形成压紧条(112);所述支撑条(122)与所述压紧条(112)的宽度相等;所述支撑条(122)与所述压紧条(112)用于夹持硅晶片;所述支撑条(122)与所述压紧条(112)的宽度小于硅晶片的厚度;所述一号通槽(121)与所述二号通槽(111)之间形成通道;

所述打磨部件(2)包括打磨带(21)、一号带轮(22)、二号带轮(23)和支撑架(24);所述通道内均设置有所述打磨带(21);每个所述通道的上方和下方均设置有所述二号带轮(23);所述通道上方和下方的所述二号带轮(23)的轴线在同一平面内;每个所述通道均对应设置有所述一号带轮(22);所述一号带轮(22)设置在所述下夹体(12)的一侧或设置在下夹体(12)的两侧;所述一号带轮(22)和所述二号带轮(23)通过所述打磨带(21)连接;所述通道的宽度大于所述打磨带(21)的厚度;所述打磨带(21)的两面均设置有磨粒;所述打磨带(21)宽度方向上的对称平面远离所述下夹体(12)内壁的轴线,且所述打磨带(21)远离所述上夹体(11)与所述下夹体(12)的铰接处一侧设置;所述一号带轮(22)与所述二号带轮(23)均转动连接在所述支撑架(24)上;所述一号带轮(22)与所述动力部件(3)连接;所述打磨带(21)在所述通道内的运动方向相同。

2.根据权利要求1所述的一种硅晶片批量抛光设备,其特征在于:所述动力部件(3)包括电机(31)、主动轮(32)、从动轮(33)和皮带(34);同一侧相邻的两个所述一号带轮(22)之间通过同步带(35)和同步带轮(36)传动;其中一个所述一号带轮(22)的转轴上固定连接所述从动轮(33);所述电机(31)的转轴上固定连接所述主动轮(32),所述主动轮(32)与所述从动轮(33)之间通过所述皮带(34)传动。

3.根据权利要求2所述的一种硅晶片批量抛光设备,其特征在于:所述支撑条(122)与所述压紧条(112)上均设置有三号通槽;所述三号通槽沿所述上夹体(11)与所述下夹体(12)之间形成圆柱状结构的切线方向设置;所述三号通槽内均设置有喷头(8);所述喷头(8)通过水管与供液设备连通。

4.根据权利要求3所述的一种硅晶片批量抛光设备,其特征在于:所述下夹体(12)上设置有磨边角部件(5);所述磨边角部件(5)包括磨头(51)、转动轴(52)、连接杆(53)和二号电动推杆(54);所述一号通槽(121)内均设置有所述磨头(51);所述磨头(51)固定连接在所述转动轴(52)上;所述转动轴(52)转动连接在所述下夹体(12)上;所述转动轴(52)上固定连接所述连接杆(53)的一端;所述连接杆(53)的另一端与所述二号电动推杆(54)的伸出端铰接;所述二号电动推杆(54)的缸体通过支架固定连接在所述下夹体(12)上。

5.根据权利要求4所述的一种硅晶片批量抛光设备,其特征在于:所述一号带轮(22)与所述打磨带(21)接触的表面设置有一层1mm厚的柔性层。

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