[发明专利]一种低成本CuCr触头表面去氧化辅助金属加工工艺

说明书

本发明公开了一种低成本CuCr触头表面去氧化辅助金属加工工艺，涉及电触头去氧化技术领域，包括S1、选材：挑选氧化CuCr触头；S2、表面活化：通过活化剂对氧化CuCr触头表面活化；S3、去离子水水洗：通过去离子水清洗CuCr触头；S4、无水乙醇脱水：通过无水乙醇对CuCr触头脱水；S5、氩气吹扫风干：通过氩气对CuCr触头进行风干；S7、预检：对CuCr触头进行预检；S8、磁力研磨：对CuCr触头进行磁力研磨；S9、真空脱脂清洗烘干：对CuCr触头进行真空脱脂清洗烘干；S10、包封：对CuCr触头真空包装入库；本发明具有生产成本低、工艺简单、适用复杂零件加工，过程易控制、环境污染小，可批量化生产等特点。

技术领域

本发明涉及电触头去氧化技术领域，具体是涉及一种低成本CuCr触头表面去氧化辅助金属加工工艺。

背景技术

电触头是中高压断路器、开关柜、隔离开关、接地开关的重要部件，开关电器的主要性能及寿命的长短，在很大程度上取决于电触头性能的好坏。电触头通常要求具有良好的导电性、较低的接触电阻、较高的抗熔焊性能、较高的耐电弧侵蚀性能和抗材料转移能力，对于CuCr真空电触头材料，还要求截流值小、耐压强度高和分断能力高。电触头的种类很多，不同种类的电触头加工方式不同，刚生产完成的CuCr触头表面残留有加工过程产生的毛刺及油污，表面脏污杂质、以及氧化等会直接影响到电触头的性能。

而在生产加工过程中，CuCr触头容易被氧化，一直是困扰触头加工行业的问题，因为CuCr触头表面产生的氧化物，会导致接触电阻增加，一旦投入使用，触头温升增高易造成供电中断，轻则影响生产和生活，重则造成重大事故。目前，针对于CuCr触头在加工及后处理过程中，为提高CuCr触头表面的使用质量及外观，一般进行抛光处理。抛光主要分为化学抛光和机械抛光，其中，化学抛光是金属表面通过有规则溶解达到光亮平滑，化学抛光可以填充表面毛孔、划痕以及其它表面缺陷，从而提高疲劳阻力、腐蚀阻力，但由于CuCr合金的特殊性，往往使用强酸强碱作为溶剂进行抛光时，触头表面Cu易被腐蚀，触头外观颜色被改变，且加工过程气味大，污染大，对环境影响大，废水难处理等。而目前普遍使用的机械抛光，是依靠非常细小的抛光粉的磨削、滚压作用，除去试样磨面上的极薄一层金属。机械抛光又分为干抛工艺和湿抛工艺两种，干抛工艺中，设备投资小，抛光产品亮度高，抛光效果有方向性，但是镜面度不高，工艺过程中会产生大量粉尘，不易处理，人工依赖性强，加工成本高。湿抛工艺中，设备投资大，亮度偏暗，抛光产品镜面度好、无方向性，产生的粉尘随抛光液流出，产生大量废液，环境污染较大；同时加工后的触头若不及时清洗烘干，就会氧化发黑，且粉屑还会粘在磨头上，使磨头无法继续打磨。同时根据触头表面的氧化程度不一，以及触头的不同规格，结构，往往需要人工不断调整抛光力度及参数，以免由于抛光力度过大，导致触头尺寸形变，内孔，内槽、凹凸面、死角、内外螺纹等部位无法彻底去除氧化，为了保证产品外观一致性，需要对未氧化产品也进行外观处理，即100％机械抛光去氧化，综合效率低，产品返修加工过程又会存在二次氧化风险，导致作业重复浪费，产品品质也受到一定影响。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明提供了一种低成本CuCr触头表面去氧化辅助金属加工工艺。

本发明的技术方案是：一种低成本CuCr触头表面去氧化辅助金属加工工艺，包括以下步骤：

S1：选材

检验挑选生产加工过程中氧化的CuCr触头，将氧化的CuCr触头放入预制好的清洗工装中；

S2：表面活化

采用精密型环保清洗剂作为原液，在PP储液槽中按照精密型环保清洗剂和去离子水体积比1:10配制好活化溶剂，将已放置好的氧化触头及清洗工装一起放入活化槽，使液面没过触头表面与溶剂充分接触，得到表面活化氧化的CuCr触头；

S3：去离子水水洗

将表面活化氧化的CuCr触头进行三道流动去离子水水洗，水洗过程保持鼓气，得到表面无挂珠流痕的CuCr触头；