[发明专利]一种含砷沉积物的处理方法

权利要求书

1.一种含砷沉积物的处理方法，包括以下步骤：

将含砷沉积物和含硫酸盐培养基混合，得到前驱体培养液；

对所述前驱体培养液进行厌氧培养；

所述前驱体培养液中包含厌氧菌；所述厌氧菌包括厌氧砷还原菌、铁还原菌和硫酸盐还原菌；

以金属元素计，所述含砷沉积物中铁和砷的摩尔比≥50。

2.根据权利要求1所述的处理方法，其特征在于，所述含硫酸盐培养基以水为溶剂，包括以下浓度的组分：MgCl₂·6H₂O 0.2～2g/L，KH₂PO₄ 0.5～0.7g/L，NaCl 23～27g/L，NH₄Cl0.002～1g/L，CaCl₂·2H₂O 0.1～1g/L，Na₂SO₄ 3～4g/L，酵母膏0.25g/L，乳酸钠6g/L，L-半胱氨酸0.242g/L，NaHCO₃ 2.52g/L，DL-二流苏糖醇0.077g/L。

3.根据权利要求1或2所述的处理方法，其特征在于，所述含硫酸盐培养基的pH值为7.2～7.3。

4.根据权利要求2所述的处理方法，其特征在于，所述含砷沉积物以干基计，所述含砷沉积物和含硫酸盐培养基的用量比为1g：(50～100)mL。

5.根据权利要求1所述的处理方法，其特征在于，所述厌氧砷还原菌包括梭状芽孢杆菌、假单胞菌、纺锤状菌、脱硫孢子菌属、酸小肠杆菌、希瓦氏菌、硫螺旋菌属、卤代硫弧菌和脱硫菌属中的一种或几种。

6.根据权利要求1所述的处理方法，其特征在于，所述铁还原菌包括梭状芽孢杆菌、假单胞菌、脱硫孢子菌属、脱硫肠状属、希瓦氏菌、硫螺旋菌属和脱硫弧菌中的一种或几种。

7.根据权利要求1所述的处理方法，其特征在于，所述硫酸盐还原菌包括芽孢杆菌、脱硫孢子菌属、脱硫肠状属、脱硫弧菌、卤代硫弧菌和脱硫菌属中的一种或几种。

8.根据权利要求1所述的处理方法，其特征在于，所述厌氧培养在避光的条件下进行，所述厌氧培养的温度为20～30℃，时间≥240天。