[发明专利]一种能谱仪的校准方法及元素测试方法

权利要求书

1.一种能谱仪的校准方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供含有目标元素的校准样品；

使用分析设备对所述校准样品进行测量，以得到目标元素的含量-深度关系曲线，作为校准曲线；

使用能谱仪对所述校准样品进行测量，以得到目标元素的含量-深度关系曲线，作为待校准曲线；

通过所述校准曲线对所述待校准曲线进行校准；

其中，所述使用能谱仪对所述校准样品进行测量，包括：在多个采集参数下，测量得到与多个采集参数对应的多条待校准曲线；

所述通过所述校准曲线对所述待校准曲线进行校准，包括：分别对所述多条待校准曲线和所述校准曲线进行拟合，得到与多个采集参数对应的多个校准因子；根据所述多个校准因子和所述多个采集参数的对应关系建立校准数据表；

其中，所述分析设备为二次离子质谱仪、原子吸收光谱或电感耦合等离子体发射光谱。

2.如权利要求1所述能谱仪的校准方法，其特征在于，所述通过所述校准曲线对所述待校准曲线进行校准，包括：

对所述校准曲线和所述待校准曲线进行拟合，得到校准因子；

通过所述校准因子对所述待校准曲线进行校准，以使校准后的曲线与所述校准曲线对齐。

3.如权利要求2所述能谱仪的校准方法，其特征在于，所述校准方法还包括：

通过校准后的曲线和所述校准曲线，确定所述能谱仪的目标元素检测下限。

4.如权利要求3所述能谱仪的校准方法，其特征在于，所述通过校准后的曲线和所述校准曲线，确定所述能谱仪的目标元素检测下限，包括：

获取校准后的曲线和所述校准曲线的交点，在所述交点对应的目标元素含量中，选择最低目标元素含量作为所述目标元素检测下限。

5.如权利要求1所述能谱仪的校准方法，其特征在于，所述采集参数包括：采集电流和采集时间。

6.一种元素测试方法，其特征在于，包括以下步骤：

使用能谱仪对校准样品进行测量，以得到目标元素的含量-深度关系曲线，作为待校准曲线；

根据能谱仪的采集参数，在校准数据表中确定所述采集参数对应的校准因子；

根据所述待校准曲线和所述校准因子，得到校准后的曲线；

根据所述校准后的曲线确定目标元素的含量；

其中，所述校准数据表为根据权利要求1-5中任一项所述能谱仪的校准方法得到的多个校准因子和多个采集参数的对应关系的数据表。

7.如权利要求6所述的元素测试方法，其特征在于，所述校准样品为硅基底；所述目标元素为氟元素。