[发明专利]液晶显示屏及其制作方法有效

专利信息
申请号: 202110553669.3 申请日: 2021-05-20
公开(公告)号: CN113325626B 公开(公告)日: 2022-06-10
发明(设计)人: 周世新 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1337
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 唐秀萍
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 液晶显示屏 及其 制作方法
【说明书】:

一种液晶显示屏及其制作方法,液晶显示屏的制作方法包括:提供第一基板;以遮光层材料在第一基板上形成遮光层,遮光层包括纵横交错的多个遮光块,并使各多个遮光块形成有多个间隙或小孔,其中,遮光层材料包括自愈合材料;对多个遮光块进行加热,使间隙或小孔中填满遮光层材料,通过在遮光块上形成多个间隙或小孔,解决了由于受遮光块的限制导致添加材料形成的聚合物成膜均一性差的问题,与此同时,通过在遮光层材料中加入自愈合材料,以使遮光块在加热条件下,消除遮光块上的多个间隙或小孔,从而在不改变液晶显示屏原有结构的情况下,有效地改善了聚合物成膜不均的问题,进而提高了液晶显示屏的品质。

【技术领域】

发明涉及显示技术领域,具体涉及一种液晶显示屏及其制作方法。

【背景技术】

在成盒制程中,需要在彩膜基板(Color Filter,CF)和阵列基板(Thin FilmTransistor,TFT)上涂布聚酰亚胺(Polyimide,PI)的配向膜,聚酰亚胺起着控制液晶分子排列方向的作用。然而,首先,由于聚酰亚胺材料的耐热性、耐老化性不佳,锚定液晶分子(Liquid Crystal,LC)的能力不够强,在一定程度上影响液晶面板的品质;其次,聚酰亚胺材料本身具有高极性和高吸水性,在存储和运送易变质而导致产生配向问题;再次,聚酰亚胺材料在薄膜晶体管液晶显示屏(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,TFT-LC D)上成膜的工艺成本较高,使得面板成本较高;最后,商用的聚酰亚胺材料中95%以上的含量为N-甲基吡咯烷酮(N-methyl-2-pyrrolido ne,NMP)和N-乙基吡咯烷酮(N-ethyl-2-pyrrolidone,NEP)等有机溶剂,有机溶剂在使用的过程中容易挥发,造成环境污染。随着面板的世代线越来越高,一方面,各制程设备成本逐渐增加;另一方面,面板的价格却逐渐降低,因此需要严格控制生产各环节的成本。一种将能够产生自取向效果的添加材料(Additive Material)添加至液晶材料中,从而达到控制液晶分子定向排列的技术(即PI-less技术)被开发出来。在生产环节中可省去聚酰亚胺段的相关制程和设备及维护,可降低生产成本,该方法的应用将极大地减少了N-甲基吡咯烷酮和N-乙基吡咯烷酮等有机溶剂在使用的过程中的挥发,降低了对环境和人员的伤害。

然而,在COA(Color Filter on Array,将彩色光阻涂布于已完成的阵列(Array)上形成彩色滤光层)机种中,由于HVA制程中的紫外光(Ultraviolet Rays,UV)光照受黑色矩阵(Black Matri x,BM)遮光的限制,导致该添加材料与聚合反应性单体(ReactionMonomer,RM)形成的聚合物(polymer)不均,从而造成不能形成完整的膜或者形成的膜的均一性差。在PI-less技术中,由于添加材料的扩散性往往会决定面板活性区(Active Area,AA)配向的优劣,如果添加材料形成的聚合物的成膜均一性能不佳,则会造成配向不良,从而导致液晶显示屏的电性差的问题。

因此,现有技术存在缺陷,有待改进与发展。

【发明内容】

本发明提供了一种液晶显示屏及其制作方法,能有效地改善添加材料形成的聚合物成膜不均的问题,从而提高液晶显示屏的电性性能。

为了解决上述问题,本发明提供了一种液晶显示屏的制作方法,包括:提供第一基板;以遮光层材料在第一基板上形成遮光层,遮光层包括纵横交错的多个遮光块,并使各多个遮光块形成有多个间隙或小孔,其中,遮光层材料包括自愈合材料;对多个遮光块进行加热,使间隙或小孔中填满遮光层材料。

其中,在以遮光层材料在第一基板上形成遮光层之后,还包括:

提供第二基板;

将第一基板与第二基板相对设置,并在第一基板和第二基板之间填充液晶层,以形成液晶盒,其中,液晶层的材料包括添加材料和聚合反应性单体,添加材料用于,控制液晶层的排列方向;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TCL华星光电技术有限公司,未经TCL华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110553669.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top