[发明专利]一种兼具疏水性和低介电常数柔性复合膜的制备方法

权利要求书

1.一种兼具疏水性和低介电常数柔性复合膜的制备方法，其特征在于，通过在聚偏二氟乙烯-三氟乙烯中添加低介电常数物质聚硼硅氧烷，合成一种疏水性低介电常数柔性膜，具体按照以下步骤实施：

步骤1：制备应变率敏感基体

步骤1.1：将硼酸在140～180℃下加热2～4h制备出焦硼酸；

步骤1.2：将焦硼酸、二甲基硅氧烷及异丙醇混合，在160～180℃的真空捏合机中搅拌2～4h，最终产物冷却至室温，得到聚硼硅氧烷聚合物基体；

步骤2：制备疏水性P(VDF-TrFE)-PBDMS低介电常数柔性复合膜

步骤2.1：按照以下质量比称取原料：聚偏二氟乙烯-三氟乙烯：聚硼硅氧烷聚合物基体＝(65～95):(5-35)；

步骤2.2：将聚偏二氟乙烯-三氟乙烯溶于有机溶剂DMF中，连续搅拌6-12h得到混合溶液A；

步骤2.3：将聚硼硅氧烷聚合物基体溶于异丙醇中，连续搅拌后得到混合溶液B；

步骤2.4：在室温条件下，将步骤2.2和步骤2.3制备好的混合溶液A、B进一步混合，搅拌直至完全均匀，得到混合溶液C；

步骤2.5：将擦拭干净的载玻片至于真空烘箱中，用胶头滴管吸取混合溶液滴在置于真空烘箱的载玻片上；

步骤2.6：抽真空，然后在60～80℃下烘干6～8h；

步骤2.7：在步骤2.6的基础上将真空烘箱的温度设置在120～180℃条件下退火2～8个小时，然后冷却至室温，得到复合膜；

步骤2.8：将复合膜浸泡于去离子水中5～10h左右，剥离即可；

步骤3：室温下，将剥离后的复合膜在高分子聚合物拉伸仪中以3～5mm/min的拉伸速率拉伸到一定倍率，即可获得最终具有疏水性的低介电柔性复合膜。

2.根据权利要求1所述的一种兼具疏水性和低介电常数柔性复合膜的制备方法，其特征在于，步骤2.2中，每100mL的DMF需要聚偏二氟乙烯-三氟乙烯5.395～7.885g。

3.根据权利要求1所述的一种兼具疏水性和低介电常数柔性复合膜的制备方法，其特征在于，步骤2.3中，每100mL的异丙醇需要聚硼硅氧烷0.4165～2.9155g。

4.根据权利要求1所述的一种兼具疏水性和低介电常数柔性复合膜的制备方法，其特征在于，步骤3所述倍率为0.5～2。

5.根据权利要求1所述的一种兼具疏水性和低介电常数柔性复合膜的制备方法，其特征在于，步骤2.3中的搅拌时间为6～12h。