[发明专利]一种智能可控的线性蒸发源有效

专利信息
申请号: 202110555293.X 申请日: 2021-05-21
公开(公告)号: CN113215547B 公开(公告)日: 2023-03-14
发明(设计)人: 李成林;郝明;杜雪峰 申请(专利权)人: 辽宁分子流科技有限公司
主分类号: C23C14/54 分类号: C23C14/54;C23C14/24
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 110179 辽宁省沈阳*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 智能 可控 线性 蒸发
【权利要求书】:

1.一种智能可控的线性蒸发源,主要包括二级坩埚、送丝机构和一级坩埚;二级坩埚为长条槽状体,二级坩埚的长度方向与镀膜幅宽方向一致;沿镀膜幅宽方向并排布置有 2 个以上的送丝机构,每个送丝机构的下方均设置有 1 个一级坩埚;二级坩埚的数量为 1 个,位于一级坩埚的下方;一级坩埚的底部设置有熔液流管,熔液流管的另一端与二级坩埚侧壁相通, 在熔液流管上设置有流量控制阀;二级坩埚上设置有 2 组以上的电极,二级坩埚上不同段的加热可进行分段控制;二级坩埚中的加热温度比一级坩埚中的加热温度高100-400℃;在二级坩埚与一级坩埚之间设置有水冷挡板,水冷挡板在一级坩埚的一侧设置有隔热层,熔液流管外表面包裹有隔热层,隔绝二级坩埚中的高温热量对处于一级坩埚区域的丝材的影响;一级坩埚将送丝机构输送来的丝材熔化成熔液,并通过熔液流管将熔液注入二级坩埚;熔液在二级坩埚中加热蒸发实现蒸发镀膜;

线性蒸发源所在的蒸发镀膜机在镀膜路径的下游设置有膜厚检测装置,可对基底上沉积的膜层进行膜厚检测;蒸发镀膜机还设置有控制系统,控制系统会实时获取膜厚检测数据,并根据膜厚检测数据对线性蒸发源进行智能调控;膜厚检测数据包括在镀膜幅宽方向上各部位的膜厚数据;控制系统内预设有膜厚的目标分布数据和蒸发材料数据库;控制系统根据实时获取的膜厚检测数据与目标分布数据之间的差异以及蒸发材料的物性参数计算出二级坩埚各段的蒸发速率调整量;然后控制系统将基于蒸发速率调整量调控二级坩埚上不同段的加热温度、每个送丝机构的送丝速度以及熔液流管的流量控制阀,从而实现线性蒸发源的闭环智能可控,使基底上沉积的膜层呈现所需的膜厚分布状态,这一膜厚分布状态是在幅宽方向上膜厚均匀一致的分布状态,或者是在幅宽方向上膜厚渐变的分布状态;

控制系统将实时获取的膜厚检测数据与目标分布数据进行标准差分析,并根据镀膜幅宽方向上的某个部位的标准差偏离程度给出与该部位所对应的二级坩埚某段的蒸发速率调整量。

2.根据权利要求 1 所述的智能可控的线性蒸发源,其特征在于:每个送丝机构的送丝速度均由控制系统根据膜厚检测数据进行单独调控;当镀膜幅宽方向上的某个部位的膜厚偏薄时, 控制系统会控制使该部位对应的送丝机构的送丝速度加快;当镀膜幅宽方向上的某个部位的 膜厚偏厚时,控制系统会控制使该部位对应的送丝机构的送丝速度减慢。

3.根据权利要求 1所述的智能可控的线性蒸发源,其特征在于:二级坩埚上不同段的加热均由控制系统根据膜厚检测数据进行单独调控;当镀膜幅宽方向上的某个部位的膜厚偏薄时, 控制系统会控制使该部位对应的二级坩埚上的这段的加热温度提高;当镀膜幅宽方向上的某 个部位的膜厚偏厚时,控制系统会控制使该部位对应的二级坩埚上的这段的加热温度降低。

4.根据权利要求 1 所述的智能可控的线性蒸发源,其特征在于:每个一级坩埚与二级坩埚之间连通的熔液流管上的流量控制阀均由控制系统根据膜厚检测数据进行单独调控;当镀膜幅宽方向上的某个部位的膜厚偏薄时,控制系统会控制使该部位对应的熔液流管中的流量增大;当镀膜幅宽方向上的某个部位的膜厚偏厚时,控制系统会控制使该部位对应的熔液流管中的流量减小。

5.根据权利要求 1 所述的智能可控的线性蒸发源,其特征在于:送丝机构设置有调速电机, 调速电机的转速受控制系统调控。

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