[发明专利]盖板及盖板镀膜方法在审

专利信息
申请号: 202110556752.6 申请日: 2021-05-21
公开(公告)号: CN113277743A 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 李万 申请(专利权)人: 蓝思科技(长沙)有限公司
主分类号: C03C17/34 分类号: C03C17/34;C23C14/35;H04M1/02
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 宋南
地址: 410100 湖南省长沙*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 盖板 镀膜 方法
【权利要求书】:

1.一种盖板,其特征在于,包括透明基材和非导电真空膜;

所述透明基材包括相对设置的外表面和内表面;

所述非导电真空膜设置在所述外表面上,且所述非导电真空膜的底层为单晶硅层。

2.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述盖板还包括类金刚石膜和抗指纹膜;

所述类金刚石膜设置在所述非导电真空膜上,所述抗指纹膜设置在所述类金刚石膜上。

3.根据权利要求2所述的盖板,其特征在于,所述类金刚石膜与所述非导电真空膜之间设有二氧化硅层;所述抗指纹膜与所述类金刚石膜之间设有二氧化硅层。

4.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述透明基材为蚀刻玻璃。

5.根据权利要求3所述的盖板,其特征在于,所述抗指纹膜为AF膜。

6.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述盖板还包括油墨层;所述油墨层设置在所述内表面上。

7.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述非导电真空膜还包括二氧化硅层和五氧化二铌层;

所述单晶硅层、所述二氧化硅层、所述五氧化二铌层、所述二氧化硅层和所述五氧化二铌层依次设置。

8.一种盖板镀膜方法,其特征在于,包括以下步骤:

向透明基材的外表面镀非导电真空膜,并将导电真空膜的底层镀为单晶硅层。

9.根据权利要求8所述的盖板镀膜方法,其特征在于,还包括以下步骤:

向非导电真空膜上依次镀二氧化硅层和类金刚石膜;向类金刚石膜上依次镀二氧化硅层和抗指纹膜。

10.根据权利要求8所述的盖板镀膜方法,其特征在于,向透明基材的内表面喷涂油墨层。

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