[发明专利]一种应用于轮辐式超导腔的滚磨抛光方法及装置在审
申请号: | 202110561130.2 | 申请日: | 2021-05-21 |
公开(公告)号: | CN113182943A | 公开(公告)日: | 2021-07-30 |
发明(设计)人: | 周全;贺斐思;潘卫民;翟纪元 | 申请(专利权)人: | 中国科学院高能物理研究所 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;B24B31/00 |
代理公司: | 北京君尚知识产权代理有限公司 11200 | 代理人: | 司立彬 |
地址: | 100049 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 应用于 轮辐 超导 抛光 方法 装置 | ||
1.一种应用于轮辐式超导腔的滚磨抛光方法,其步骤包括:
1)对轮辐腔进行超声清洗和测量后进行轮辐腔自转滚磨粗抛,粗抛设定厚度H1后进行步骤2);其中,自转滚磨粗抛过程中轮辐腔内所用磨料为:洁净水+抛光液+树脂圆锥磨料;
2)对轮辐腔进行自转滚磨细抛,精抛设定厚度H2后进行步骤3);其中,自转滚磨细抛过程中轮辐腔内所用磨料为:洁净水+800目纯度98%以上的氧化铝粉末+边长5mm木方;
3)对轮辐腔进行自转滚磨精抛设定厚度H3后停止;其中,自转滚磨精抛过程中轮辐腔内所用磨料为:洁净水+40nm的二氧化硅抛光液+边长5mm木方。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,自转滚磨粗抛过程中先顺时针自转粗抛设定时间后反转,进行逆时针自转粗抛设定时间后再次反转;进行多次反转直至达到粗抛设定厚度H1。
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,粗抛设定厚度H1为20μm,每隔1小时反转一次。
4.如权利要求1或2或3所述的方法,其特征在于,自转滚磨精抛过程中先顺时针自转粗抛设定时间后反转,进行逆时针自转精抛设定时间后再次反转;进行多次反转直至达到精抛光设定厚度H3。
5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,精抛到设定厚度H3为5μm,每隔3小时反转一次;细抛设定厚度H2为10μm。
6.如权利要求1或2或3所述的方法,其特征在于,对轮辐腔进行超声清洗的方法为:将轮辐腔整体放入超声波清洗机中,使用金属清洁剂按配比加入50℃热水中超声清洗30min以上;随后取出用洁净水冲洗干净。
7.如权利要求1或2或3所述的方法,其特征在于,滚磨抛光过程中,轮辐腔的腔体温度不超过30℃,以抛光设备稳定运行为目标确定轮辐腔的自转速度。
8.如权利要求1或2或3所述的方法,其特征在于,轮辐腔内填充1/3-2/3的磨料。
9.一种应用于轮辐式超导腔的滚磨抛光装置,其特征在于,包括电机、固定工装和支撑工装;其中所述固定工装用于固定轮辐腔,所述固定工装上设有一大轮盘,该大轮盘的旋转轴与轮辐腔同轴;所述支撑工装包括一底座,该底座上设有一对轴孔,该大轮盘的轴穿过该对轴孔,实现所述支撑工装与所述固定工装的连接;电机的小轮盘通过环带带动该大轮盘旋转,实现轮辐腔自转。
10.如权利要求9所述的滚磨抛光装置,其特征在于,所述轮辐腔为单轮辐腔、双轮辐腔或多轮辐腔。
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