[发明专利]一种应用于轮辐式超导腔的滚磨抛光方法及装置在审

专利信息
申请号: 202110561130.2 申请日: 2021-05-21
公开(公告)号: CN113182943A 公开(公告)日: 2021-07-30
发明(设计)人: 周全;贺斐思;潘卫民;翟纪元 申请(专利权)人: 中国科学院高能物理研究所
主分类号: B24B1/00 分类号: B24B1/00;B24B31/00
代理公司: 北京君尚知识产权代理有限公司 11200 代理人: 司立彬
地址: 100049 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 应用于 轮辐 超导 抛光 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种应用于轮辐式超导腔的滚磨抛光方法,其步骤包括:

1)对轮辐腔进行超声清洗和测量后进行轮辐腔自转滚磨粗抛,粗抛设定厚度H1后进行步骤2);其中,自转滚磨粗抛过程中轮辐腔内所用磨料为:洁净水+抛光液+树脂圆锥磨料;

2)对轮辐腔进行自转滚磨细抛,精抛设定厚度H2后进行步骤3);其中,自转滚磨细抛过程中轮辐腔内所用磨料为:洁净水+800目纯度98%以上的氧化铝粉末+边长5mm木方;

3)对轮辐腔进行自转滚磨精抛设定厚度H3后停止;其中,自转滚磨精抛过程中轮辐腔内所用磨料为:洁净水+40nm的二氧化硅抛光液+边长5mm木方。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,自转滚磨粗抛过程中先顺时针自转粗抛设定时间后反转,进行逆时针自转粗抛设定时间后再次反转;进行多次反转直至达到粗抛设定厚度H1。

3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,粗抛设定厚度H1为20μm,每隔1小时反转一次。

4.如权利要求1或2或3所述的方法,其特征在于,自转滚磨精抛过程中先顺时针自转粗抛设定时间后反转,进行逆时针自转精抛设定时间后再次反转;进行多次反转直至达到精抛光设定厚度H3。

5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,精抛到设定厚度H3为5μm,每隔3小时反转一次;细抛设定厚度H2为10μm。

6.如权利要求1或2或3所述的方法,其特征在于,对轮辐腔进行超声清洗的方法为:将轮辐腔整体放入超声波清洗机中,使用金属清洁剂按配比加入50℃热水中超声清洗30min以上;随后取出用洁净水冲洗干净。

7.如权利要求1或2或3所述的方法,其特征在于,滚磨抛光过程中,轮辐腔的腔体温度不超过30℃,以抛光设备稳定运行为目标确定轮辐腔的自转速度。

8.如权利要求1或2或3所述的方法,其特征在于,轮辐腔内填充1/3-2/3的磨料。

9.一种应用于轮辐式超导腔的滚磨抛光装置,其特征在于,包括电机、固定工装和支撑工装;其中所述固定工装用于固定轮辐腔,所述固定工装上设有一大轮盘,该大轮盘的旋转轴与轮辐腔同轴;所述支撑工装包括一底座,该底座上设有一对轴孔,该大轮盘的轴穿过该对轴孔,实现所述支撑工装与所述固定工装的连接;电机的小轮盘通过环带带动该大轮盘旋转,实现轮辐腔自转。

10.如权利要求9所述的滚磨抛光装置,其特征在于,所述轮辐腔为单轮辐腔、双轮辐腔或多轮辐腔。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院高能物理研究所,未经中国科学院高能物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110561130.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top