[发明专利]光学扫描装置及电子成像设备在审
申请号: | 202110561938.0 | 申请日: | 2021-05-24 |
公开(公告)号: | CN113009797A | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 聂勇超;王东宁 | 申请(专利权)人: | 珠海奔图电子有限公司 |
主分类号: | G03G15/04 | 分类号: | G03G15/04 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 朱颖;刘芳 |
地址: | 519060 广东省珠海*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 扫描 装置 电子 成像 设备 | ||
1.一种光学扫描装置,包括:沿光路依次设置的光源、入射光学系统、第一光栅、光学偏转器以及成像光学系统;
所述光源包括至少两个发光部,所述发光部用于发射光束;
所述入射光学系统包括使从所述发光部发射的光束在主扫描方向上准直的曲面;
所述第一光栅用于使从所述入射光学系统出射的光束至少在主扫描方向上成形,并使得成形后的光束入射至所述光学偏转器;
所述光学偏转器用于偏转从所述第一光栅出射的光束;
所述成像光学系统用于将所述光学偏转器偏转的光束引导至被扫描目标表面上进行成像;
其特征在于,满足以下表达式:
其中,
W表示在主扫描方向上最远离所述入射光学系统的光轴的两个发光部之间的间距;
La表示所述第一光栅与所述入射光学系统中使所述发光部发射的光束在主扫描方向上准直的曲面之间的光路长度;
f表示所述入射光学系统在主扫描方向上的焦距长度;
D表示通过靠近所述光源的所述入射光学系统的所有光束中,最远离所述光轴的光束在所述入射光学系统的出射面上沿主扫描方向上的宽度。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述入射光学系统,包括:沿光路依次设置的准直透镜以及柱状透镜;
所述准直透镜包括第一入射面以及第一出射曲面,所述第一出射曲面用于使所述光源发射的光束在主扫描方向上准直;
所述柱状透镜用于将通过所述准直透镜的平行光束在副扫描方向上聚焦。
3.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,在所述表达式中:
La具体表示所述第一光栅与所述准直透镜的第一出射曲面之间的光路长度;
f具体表示所述准直透镜在主扫描方向上的焦距长度;
D具体表示通过所述准直透镜的所有光束中,与所述光轴距离最远的光束在所述准直透镜的第一出射曲面上沿主扫描方向上的宽度。
4.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述入射光学系统包括:单个变形透镜、折射单元以及衍射单元,所述折射单元以及所述衍射单元分别设置在所述单个变形透镜的入射光侧和出射光侧。
5.根据权利要求4所述的装置,其特征在于,所述变形透镜为塑胶材质或玻璃材质,所述折射单元以及所述衍射单元通过注塑一体分别成型于所述变形透镜的入射光侧和出射光侧。
6.根据权利要求1-5任一项所述的装置,其特征在于,所述至少两个发光部在主扫描方向和/或副扫描方向上间隔设置。
7.根据权利要求1-5任一项所述的装置,其特征在于,还包括:
第二光栅,设置于所述光源以及所述入射光学系统之间,用于使所述光源发射的光束成形,并使得成形后的光束入射至所述入射光学系统。
8.根据权利要求1-5任一项所述的装置,其特征在于,所述光学偏转器包括设置有多个反射镜面的光学多面体,所述光学多面体用于偏转所述第一光栅出射的光束。
9.根据权利要求1-5任一项所述的装置,其特征在于,所述成像光学系统包括两个成像光学透镜。
10.一种电子成像设备,其特征在于,包括:
权利要求1至9任一项所述的光学扫描装置;
与所述光学扫描装置配合的感光鼓,所述光学扫描装置出射的光束在所述感光鼓的光感受面上形成静电潜像;
显影装置,用来将所述静电潜像显影形成碳粉图像;
转印装置,用来将所述碳粉图像转印到转印介质上;
定影装置,用来对转印介质上的被转印的碳粉图像定影。
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