[发明专利]一种二维材料光控逻辑门在审

专利信息
申请号: 202110566411.7 申请日: 2021-05-24
公开(公告)号: CN113315507A 公开(公告)日: 2021-08-27
发明(设计)人: 张跃;黄梦婷;张铮;汤文辉;刘璇;王利华;陈匡磊;尚金森;卫孝福 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: H03K19/094 分类号: H03K19/094;H03K19/20
代理公司: 北京市广友专利事务所有限责任公司 11237 代理人: 张仲波;付忠林
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 二维 材料 光控 逻辑
【权利要求书】:

1.一种二维材料光控逻辑门,其特征在于,所述逻辑门包括第一衬底和第二衬底,所述第一衬底上集成有第一光敏层、第一电极、第二电极、第三电极以及第四电极;所述第二衬底上集成有第二光敏层、第五电极以及第六电极;其中,所述第一光敏层和所述第二光敏层均由二维光敏材料制成;

所述第一衬底、第一光敏层、第一电极和第二电极构成第一光电晶体管;所述第一衬底、第一光敏层、第二电极和第三电极构成第二光电晶体管;所述第一衬底、第一光敏层、第三电极和第四电极构成第三光电晶体管;所述第二衬底、第二光敏层、第五电极和第六电极构成第四光电晶体管;

所述第一衬底用作所述第一光电晶体管、第二光电晶体管和第三光电晶体管的栅极,所述第一光敏层用作所述第一光电晶体管、第二光电晶体管和第三光电晶体管的沟道;所述第一电极和第二电极分别用作第一光电晶体管的源极和漏极;所述第二电极和第三电极分别用作第二光电晶体管的源极和漏极;所述第三电极和第四电极分别用作第三光电晶体管的源极和漏极;所述第二衬底用作所述第四光电晶体管的栅极,所述第二光敏层用作所述第四光电晶体管的沟道,所述第五电极和第六电极分别用作第四光电晶体管的源极和漏极;

所述第一光电晶体管、所述第二光电晶体管以及所述第三光电晶体管串联连接;所述第三光电晶体管与所述第四光电晶体管并联连接。

2.如权利要求1所述的二维材料光控逻辑门,其特征在于,所述第一光电晶体管、第二光电晶体管、第三光电晶体管以及第四光电晶体管的沟道宽度分别为2μm-3μm。

3.如权利要求1所述的二维材料光控逻辑门,其特征在于,所述第三电极与所述第六电极,以及所述第四电极与所述第五电极分别通过连接导线连接。

4.如权利要求3所述的二维材料光控逻辑门,其特征在于,所述连接导线为金金属导线。

5.如权利要求1所述的二维材料光控逻辑门,其特征在于,所述第一光敏层和所述第二光敏层的厚度分别为3nm-30nm,长度分别为20-30μm。

6.如权利要求1所述的二维材料光控逻辑门,其特征在于,所述第一衬底最下面一层为硅,在硅上面有一层二氧化硅。

7.如权利要求6所述的二维材料光控逻辑门,其特征在于,所述第二衬底最下面一层为硅,在硅上面有一层二氧化硅。

8.如权利要求1所述的二维材料光控逻辑门,其特征在于,所述第一电极、第二电极、第三电极、第四电极、第五电极以及第六电极均为金金属电极。

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