[发明专利]炫彩纹理膜、壳体组件及电子设备

权利要求书

1.一种炫彩纹理膜，其特征在于，包括：

基底层；

纹理层，设置于所述基底层的表面，所述纹理层远离所述基底层的表面包括间隔设置的多个纹理部，所述多个纹理部使所述纹理层具有多个雾度；以及

镀膜层，设置于所述纹理层远离所述基底层的表面。

2.根据权利要求1所述的炫彩纹理膜，其特征在于，沿第一方向，所述纹理层的纹理部的密度、宽度、高度或深度中的一个或多个呈渐变变化，以使所述纹理层的雾度沿第一方向呈渐变变化。

3.根据权利要求2所述的炫彩纹理膜，其特征在于，所述纹理层包括相对设置的第一端和第二端，所述纹理部的密度、宽度、高度或深度中的一个或多个自所述第一端向所述第二端呈渐变变化，以使所述纹理层的雾度自所述第一端向所述第二端呈渐变变化，其中，所述第一方向为所述第一端和所述第二端的排列方向；

或者，

所述纹理层包括间隔设置的第一位置和第二位置，所述第一位置靠近所述纹理层的外周，所述第二位置相较于所述第一位置远离所述纹理层的外周，所述纹理部的密度、宽度、高度或深度中的一个或多个自所述第一位置向所述第二位置呈渐变变化，以使所述纹理层的雾度自所述第一位置向所述第二位置呈渐变变化，其中，所述第一方向为自所述第一位置向所述第二位置延伸的方向。

4.根据权利要求1所述的炫彩纹理膜，其特征在于，所述纹理层包括多个纹理区，每个所述纹理区包括多个间隔设置的所述纹理部，任意相邻的两个所述纹理区的纹理部的密度、宽度、高度或深度中的一个或多个不同，以使所述多个纹理区具有不同的雾度。

5.根据权利要求4所述的炫彩纹理膜，其特征在于，所述多个纹理区包括相邻的第一纹理区和第二纹理区，所述第一纹理区与所述第二纹理区的雾度之差大于或等于20％时，所述多个纹理区还包括过渡纹理区，所述过渡纹理区位于所述第一纹理区和第二纹理区之间且分别连接所述第一纹理区与所述第二纹理区，所述过渡纹理区的纹理部的密度、宽度、高度或深度中的一个或多个呈渐变变化，以使所述过渡纹理区的雾度沿第二方向，由第一纹理区的雾度逐渐变化至第二纹理区的雾度，其中，所述第二方向为所述第一纹理区与所述第二纹理区的排列方向。

6.根据权利要求4所述的炫彩纹理膜，其特征在于，所述纹理层包括镜面区，所述镜面区与一个或多个所述纹理区相连，所述镜面区的雾度小于5％，以使得所述纹理层的所述镜面区呈镜面效果。

7.根据权利要求1所述的炫彩纹理膜，其特征在于，所述纹理部为凸起部或凹陷部中的一种或多种，当所述纹理部为凸起部时，所述凸起部的高度为1μm至5μm；当所述纹理部为凹陷部时，所述凹陷部的深度为1μm至5μm；相邻两个所述纹理部之间的间距为0.5μm至12μm；所述纹理部的宽度为500nm至2000nm。

8.根据权利要求7所述的炫彩纹理膜，其特征在于，所述纹理部的形状为半球形、半椭球形、棱锥形、圆锥形中的一种或多种。

9.根据权利要求1所述的炫彩纹理膜，其特征在于，所述镀膜层包括层叠设置的多层真空镀膜，所述镀膜层的厚度为10nm至5000nm，每层所述真空镀膜的厚度为3nm至140nm。

10.根据权利要求1-5、7-9任意一项所述的炫彩纹理膜，其特征在于，所述炫彩纹理膜还包括盖底层，所述盖底层设置于所述镀膜层远离所述基底层的表面。

11.一种壳体组件，其特征在于，包括：

壳体本体；

粘胶层，所述粘胶层设置于所述壳体本体的表面；以及

权利要求1至10任意一项所述的炫彩纹理膜，所述炫彩纹理膜设置于的粘胶层远离所述壳体本体的表面，并通过所述粘胶层粘合于所述壳体本体，所述基底层相较于所述镀膜层靠近所述壳体本体设置。

12.一种电子设备，其特征在于，包括：

显示组件，用于显示；

权利要求11所述的壳体组件，所述壳体组件与所述显示组件围合成容置空间；以及

电路板组件，所述电路板组件设置于所述容置空间，且与所述显示组件电连接，用于控制所述显示组件进行显示。