[发明专利]墨水撞击点校正装置及具有其的基板处理系统在审

专利信息
申请号: 202110576199.2 申请日: 2021-05-26
公开(公告)号: CN113910773A 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 金成昊;张润玉;李贤民;李焌硕;崔光俊 申请(专利权)人: 细美事有限公司
主分类号: B41J2/045 分类号: B41J2/045;B41J3/407;B41J2/01
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 王达佐;王艳春
地址: 韩国忠*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 墨水 撞击 校正 装置 具有 处理 系统
【权利要求书】:

1.墨水撞击点校正装置,包括:

识别部,从位于基板上的多个位置获得与墨水的撞击点有关的信息;以及

校正部,基于与所述撞击点有关的信息校正所述基板上的墨水喷射位置的位置,

其中,在所述多个位置处形成坐标系形态的坐标图案。

2.根据权利要求1所述的墨水撞击点校正装置,其中,

当墨水液滴喷射到所述坐标图案上时,所述识别部识别所述墨水液滴的坐标,以获得与所述撞击点有关的信息。

3.根据权利要求1所述的墨水撞击点校正装置,其中,

当获得多个墨水液滴的坐标作为与所述撞击点有关的信息时,所述校正部基于所述多个墨水液滴的坐标计算出斜率,并且基于所述斜率校正所述墨水喷射位置的位置。

4.根据权利要求1所述的墨水撞击点校正装置,其中,

当获得多个墨水液滴的坐标作为与所述撞击点有关的信息时,所述校正部校正所述墨水喷射位置的位置,使得在所述多个墨水液滴的坐标中至少一个坐标轴的坐标值都为0。

5.根据权利要求1所述的墨水撞击点校正装置,其中,

在所述基板上存在多个单元区域的情况下,所述校正部基于相邻的两个单元区域之间的关系信息,使用第一模式和第二模式中的任一模式来校正所述墨水喷射位置的位置。

6.根据权利要求5所述的墨水撞击点校正装置,其中,

所述校正部在校正待共同适用到所述相邻的两个单元区域的图案方案时,使用所述第一模式来校正所述墨水喷射位置的位置,或者

在所述校正部使用所述第一模式来校正所述墨水喷射位置的位置的情况下,所述识别部从位于所述相邻的两个单元区域的外围的多个位置识别所述撞击点。

7.根据权利要求5所述的墨水撞击点校正装置,其中,

所述校正部在校正待区分适用到所述相邻的两个单元区域的图案方案时,使用所述第二模式来校正所述墨水喷射位置的位置,或者

在所述校正部使用所述第二模式来校正所述墨水喷射位置的位置的情况下,所述识别部从位于所述相邻的两个单元区域的外围的多个位置以及位于所述相邻的两个单元区域之间的至少一个位置识别所述撞击点。

8.根据权利要求5所述的墨水撞击点校正装置,其中,

所述校正部使用关于是否在所述相邻的两个单元区域中设置具有相同大小的应用的信息、关于是否在所述相邻的两个单元区域中设置发生热变形的应用的信息、以及关于是否在所述相邻的两个单元区域之间存在对准变化的信息中的至少一种信息作为所述关系信息。

9.根据权利要求1所述的墨水撞击点校正装置,其中,

所述多个位置形成在所述基板上未形成单元区域的虚拟区域中。

10.根据权利要求9所述的墨水撞击点校正装置,其中,

所述多个位置在所述基板上形成所述单元区域之前,形成在所述虚设区域中,或者在所述基板上形成所述单元区域之后,形成在所述虚设区域中,以及

在所述基板上形成所述单元区域之前形成在所述虚拟区域中的情况下,所述多个位置基于在所述基板上形成的对准标记形成在所述虚拟区域中。

11.根据权利要求1所述的墨水撞击点校正装置,其中,

所述识别部从所述基板上沿至少一个方向布置成一列的所述多个位置识别所述撞击点,以获得与所述撞击点有关的信息。

12.根据权利要求11所述的墨水撞击点校正装置,其中,

在从所述基板上沿至少一个方向布置成一列的所述多个位置识别所述撞击点的情况下,所述识别部从位于外围的两个位置识别所述撞击点。

13.根据权利要求1所述的墨水撞击点校正装置,其中,

通过考虑所述基板的移动方向来选择所述多个位置。

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