[发明专利]一种深陷阱长余辉发光材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110576333.9 申请日: 2021-05-26
公开(公告)号: CN113214832B 公开(公告)日: 2023-05-16
发明(设计)人: 曾巍;张全梅;贾鹏孝;管洁;闵魁英;蒋佩良;赵振洋 申请(专利权)人: 西北师范大学;兰州市消防救援支队
主分类号: C09K11/67 分类号: C09K11/67
代理公司: 兰州智和专利代理事务所(普通合伙) 62201 代理人: 周立新
地址: 730070 甘肃*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要:
搜索关键词: 一种 深陷 余辉 发光 材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种深陷阱长余辉发光材料的制备方法,其特征在于,该制备方法具体按以下步骤进行:

步骤1:按照K2-x-yZrSiO5: Eux, Lny表达式中各个化学成分的计量比,分别称取以下原料:

K2CO3或KNO3

ZrO2或Zr(NO3)4·5H2O;

SiO2

Eu2O3

La2O3、CeO2、Pr6O11、Nd2O3、Sm2O3、Gd2O3、Tb4O7、Dy2O3、Ho2O3、Er2O3、Tm2O3、Yb2O3、Lu2O3、Y2O3中的一种或者至少两种;

将所取的各原料混合研磨,制得原料粉末;

步骤2:将原料粉末置于温度为1000℃~1300℃的环境中,在还原气氛下焙烧2~6小时,自然冷却至室温,得到煅烧物;

步骤3:研磨步骤2得到的煅烧物,制得深陷阱长余辉发光材料;该深陷阱长余辉材料的化学式为K2-x-yZrSiO5: Eux, Lny;其中,Ln=La、Ce、Pr、Nd、Sm、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Y中的一种或者至少两种的任意组合;0.001≤x≤0.05,0.001≤y≤0.08;在紫外光激发下,该深陷阱长余辉材料发出以550nm为中心的黄光发射,经250~500 nm波长的光激发10 min后,在300℃的温度下发黄光。

2.根据权利要求1所述深陷阱长余辉发光材料的制备方法,其特征在于,所述步骤2中的还原气氛为混合气体或氨气;该混合气体按体积百分比,由5~15%的H2和95~85%的N2组成;或者,该混合气体按体积百分比,由5~25%的CO和95~75%的N2组成。

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