[发明专利]一种金属抛光液、以及金属抛光方法

权利要求书

1.一种金属抛光液，用以对金属进行抛光处理，其特征在于，所述金属抛光液包括以下组分：

微生物、微生物培养液和缓蚀剂，其中，所述微生物的代谢产物能与金属进行氧化还原反应，从而对金属进行抛光处理。

2.如权利要求1所述的金属抛光液，其特征在于，所述微生物包括氧化亚铁硫杆菌、氧化硫硫杆菌、嗜酸喜温硫杆菌和氧化亚铁钩端螺旋菌中的至少一种。

3.如权利要求1所述的金属抛光液，其特征在于，所述微生物的浓度不低于1×10⁶个/mL，且所述微生物的代谢产物浓度为1～15g/L。

4.如权利要求1所述的金属抛光液，其特征在于，所述缓蚀剂包括铬酸盐、硅酸盐、聚磷酸盐、硝酸盐、亚硝酸盐、硼酸盐、苯骈三氮唑、烷基苯磺酸钠、硫脲、油酸二乙醇胺、硫代水杨酸、十二烷基硫酸铵、水杨羟肟酸、三氯乙酸、乌洛托品、巯基苯并噻唑、紫薇叶提取物、松脂、薰衣草油和可溶液性蛋白质中的至少一种。

5.如权利要求1所述的金属抛光液，其特征在于，所述缓蚀剂的含量为5～20mg/L。

6.如权利要求1所述的金属抛光液，其特征在于，所述金属抛光液的温度为20～40℃；和/或，

所述微生物培养液的pH值为1～3。

7.一种金属抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：

S10、将待处理金属浸泡于金属抛光液中，以对所述待处理的金属进行抛光处理；

S20、对浸泡完成后的所述金属进行水洗、干燥，即完成对金属的抛光处理；

其中，所述金属抛光液为权利要求1所述的金属抛光液。

8.如权利要求7所述的金属抛光方法，其特征在于，在步骤S10之前，还包括以下步骤：

对所述待处理金属的表面进行初步清理。

9.如权利要求7所述的金属抛光方法，其特征在于，步骤S10包括：

将待处理的金属浸泡于金属抛光液中进行微生物抛光，同时使用柔性抛光垫进行辅助抛光处理。

10.如权利要求9所述的金属抛光方法，其特征在于，所述柔性抛光垫的材质包括绒毛、纤维、皮革中的任意一种。