[发明专利]传送路径校正技术和相关系统、方法和装置

权利要求书

1.一种电子产品制造设备，包含：

沉积源，以在基底上沉积材料；

浮动台，用于当材料沉积在其上时，将基底支撑在流体垫上；和

基底传送系统，包含：

用于存储预定数据的存储器，

第一部件，根据电子刺激沿着基底传送轨道行进，所述基底传送轨道在第一方向上延伸，

第二部件，其选择性地接合基底，以在第一方向上传送基底，和

至少一个基底传送换能器，其联接第一部件和第二部件，所述至少一个基底传送换能器使第二部件在与第一方向垂直的第二方向上位移；

其中，当第二部件沿着第一方向行进时，所述至少一个基底传送换能器在第二方向上调节第二部件的位置。

2.根据权利要求1所述的电子产品制造设备，其中，所述至少一个基底传送换能器根据所述预定数据和取决于所述电子刺激而被驱动。

3.根据权利要求1所述的电子产品制造设备，其中，所述至少一个基底传送换能器根据所述预定数据和取决于所述第一部件沿着所述轨道的位置而被驱动。

4.根据权利要求1所述的电子产品制造设备，其中，所述第一部件根据所述预定数据而被驱动，而且所述预定数据限定所述第一部件在所述第一方向上的基底速度。

5.根据权利要求1所述的电子产品制造设备，其中，所述沉积源包含具有喷嘴的打印头，所述喷嘴用于将材料液滴喷射到所述基底上，所述材料包含膜形成材料，而且所述打印头根据由预定数据定义的第二方向打印头速度而被驱动。

6.一种电子产品制造设备，包含：

沉积源，以在基底上沉积材料；

浮动台，用于当材料沉积在其上时，将基底支撑在流体垫上；和

基底传送系统，包含

第一部件，根据电子刺激沿着基底传送轨道行进，该基底传送轨道在第一方向上延伸，

第二部件，其选择性地接合基底，以在第一方向上传送基底，和

至少两个基底传送换能器，其联接第一部件和第二部件，所述至少两个基底传送换能器使第二部件在与第一方向垂直的第二方向上位移；

其中，当第二部件沿着第一方向行进时，至少两个基底传送换能器调节第二部件在第二方向上的位置，以使第二部件沿着直线在第一方向上行进。

7.根据权利要求6所述的电子产品制造设备，其中，使用共模控制来致动所述至少两个基底传送换能器，从而在所述第二方向上位移所述第二部件和所述基底。

8.根据权利要求6所述的电子产品制造设备，其中，使用差模控制来致动所述至少两个基底传送换能器，从而旋转所述基底。

9.根据权利要求6所述的电子产品制造设备，其中，所述基底传送系统还包含机械枢转组件，所述机械枢转组件联接所述第一部件和所述第二部件，并且其中，所述至少两个基底传送换能器使用共模控制来致动，从而使机械枢转组件在第二方向上位移。

10.根据权利要求9所述的电子产品制造设备，其中，所述机械枢转组件限定枢转点，并且使用差模控制来致动所述至少两个基底传送换能器，以使所述第二部件相对于所述第一部件绕所述枢转点旋转。

11.一种电子产品制造设备，包含：

沉积源，以在基底上沉积材料；

浮动台，用于当材料沉积在其上时，将基底支撑在流体垫上；和

基底传送系统，包含：

第一部件，根据电子刺激沿着基底传送轨道行进，该基底传送轨道在第一方向上延伸；

第二部件，其选择性地接合基底，以便在将材料沉积在其上的同时，在传送平面中在第一方向上传送基底；和

至少一个基底传送换能器，其联接第一部件和第二部件，所述至少一个基底传送换能器使第二部件在与第一方向垂直且平行于传送平面的第二方向上位移；

其中，当第二部件沿着第一方向行进时，所述至少一个基底传送换能器在第二方向上调节第二部件的位置，以使第二部件沿着直线在第一方向上行进。

12.根据权利要求11所述的电子产品制造设备，其中，所述至少一个基底传送换能器用于沿着与所述第一方向垂直且垂直于所述传送平面的第三方向，以朝向和远离所述沉积源而位移所述基底。