[发明专利]一种基于笼状聚倍半硅氧烷的负性光刻胶及其制备方法

权利要求书

1.一种基于笼状聚倍半硅氧烷的负性光刻胶，其特征在于，所述负性光刻胶包括带八个反应双键的笼状聚倍半硅氧烷、辅助树脂、引发剂和溶剂。

2.根据权利要求1所述的基于笼状聚倍半硅氧烷的负性光刻胶，其特征在于，所述负性光刻胶包括以下原料：

带八个反应双键的笼状聚倍半硅氧烷的质量比为5～10％，辅助树脂的质量比为5～15％，引发剂的质量比为1～3％，余量为溶剂。

3.根据权利要求1所述的基于笼状聚倍半硅氧烷的负性光刻胶，其特征在于：

所述笼状聚倍半硅氧烷为甲基丙基酰氧丙基笼状聚倍半硅氧烷、丙烯酰氧丙基笼状聚倍半硅氧烷和乙烯基笼状聚倍半硅氧烷中的一种或多种；

所述笼状聚倍半硅氧烷的结构式为：

其中，R为

4.根据权利要求1所述的基于笼状聚倍半硅氧烷的负性光刻胶，其特征在于：

所述辅助树脂为甲基丙烯酸酯类聚合物、甲基丙烯酸酯类活性单体、甲基丙烯酸、丙烯酸酯类聚合物、丙烯酸酯类活性单体和丙烯酸中的一种或几种。

5.根据权利要求1所述的基于笼状聚倍半硅氧烷的负性光刻胶，其特征在于：

所述引发剂为自由基型光引发剂，具体为，2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、1-羟基环己基苯基甲酮、2-甲基-2-(4-吗啉基)-1-[4-(甲硫基)苯基]-1-丙酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦和2,4,6-三甲基苯甲酰基苯基膦酸乙酯中的一种或几种。

6.根据权利要求1所述的基于笼状聚倍半硅氧烷的负性光刻胶，其特征在于：

溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇乙醚醋酸酯、乙二醇甲醚醋酸酯、乙二醇单丁醚、乙二醇乙醚醋酸酯、乙二醇单丙醚、乙二醇丁醚醋酸酯和环己酮中的一种或多种。

7.根据权利要求1所述的基于笼状聚倍半硅氧烷的负性光刻胶，其特征在于，所述笼状聚倍半硅氧烷的制备方法如下：

(1)将相应质量的硅烷加入到第一溶剂中，然后滴加配好的盐酸水溶液，在80℃温度下反应48h；

(2)冷却到室温后，加碱中和步骤(1)加入的盐酸，过滤或者加第二溶剂析出分液得到粗产物；

(3)用第三溶剂洗涤粗产品至少3次后，真空加热去除溶剂后即得相应结构的笼状聚倍半硅氧烷；

其中，水的添加量为硅烷物质的量的1.51～1.52倍，盐酸的添加量与硅烷物质的摩尔比为：1.5～20:100。

8.根据权利要求7所述的基于笼状聚倍半硅氧烷的负性光刻胶，其特征在于：

所述硅烷为甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧丙基三乙氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基三异丙氧基硅烷、丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷、丙烯酰氧丙基三乙氧基硅烷、乙烯基三异丙氧基硅烷、乙烯基三-(2-甲氧乙氧基)-硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷和乙烯基三乙氧基硅烷中的其中一种。

9.根据权利要求7所述的基于笼状聚倍半硅氧烷的负性光刻胶，其特征在于：

所述第一溶剂为乙醇或异丙醇；第二溶剂为正己烷或水；第三溶剂为乙醇和水、或乙醇和正己烷的混合溶剂。

10.一种基于笼状聚倍半硅氧烷的负性光刻胶的制备方法，其特征在于：

按下述配比原料混合均匀，即得所述基于笼状聚倍半硅氧烷的负性光刻胶；所述原料包括带八个反应双键的笼状聚倍半硅氧烷的质量比为5～10％，辅助树脂的质量比为5～15％，引发剂的质量比为1～3％，余量为溶剂。