[发明专利]一种提高激光淬火层深度的激光淬火工艺在审
| 申请号： | 202110589486.7 | 申请日： | 2021-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN113278768A | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 何建方;刘少彬;马万花;刘汉杰;高龙;信成飞 | 申请（专利权）人： | 丹阳宏图激光科技有限公司 |
| 主分类号： | C21D1/09 | 分类号： | C21D1/09 |
| 代理公司： | 常州万为知识产权代理事务所(普通合伙) 32441 | 代理人： | 袁程斌 |
| 地址： | 212300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 提高 激光 淬火 深度 工艺 | ||
【权利要求书】：
1.一种提高激光淬火层深度的激光淬火工艺，其特征在于，包括如下步骤：
A、对待淬火工件表面进行清洁，以确保其表面符合激光淬火要求；
B、对激光设备进行调校，把准直度由100mm调整到70-80mm，以增大进光光斑；把积分镜由原来的30*1.5mm定制为30*3mm-30*4mm，在同等时间内增加光斑区域受热时间；调整工艺参数中的移动速度，由300～350mm/min调整到120-180mm/min，目的是延长光斑在加热区的受热时间，以增强加热深度；
C、使用调校完成的激光设备对待淬火的工件表面进行激光淬火；
D、对完成激光淬火的工件进行激光淬火层深度测定。
2.根据权利要求1所述的提高激光淬火层深度的激光淬火工艺，其特征在于，所述步骤B中，把准直度由100mm调整到75mm。
3.根据权利要求1或2所述的提高激光淬火层深度的激光淬火工艺，其特征在于，所述步骤B中，把积分镜由原来的30*1.5mm定制为30*4mm。
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