[发明专利]静电卡盘部件的自动原地更换结构在审
申请号: | 202110589644.9 | 申请日: | 2021-05-28 |
公开(公告)号: | CN113764250A | 公开(公告)日: | 2021-12-07 |
发明(设计)人: | 林大辅;川端淳史 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01L21/683;H01L21/67 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;张微 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 静电 卡盘 部件 自动 原地 更换 结构 | ||
1.一种基板支撑件,包括:
基台;以及
静电卡盘,所述静电卡盘的上部与下部可分离,所述下部保持在所述基台上,所述上部能够原地更换,其中:
所述静电卡盘的上部包括顶部陶瓷板,所述顶部陶瓷板具有:
第一电极,通过响应于施加到所述第一电极的第一电压而产生的第一静电引力,可控制地将晶片保持在所述顶部陶瓷板的上表面,以及
金属层,设置在所述第一电极和所述静电卡盘的底部的上表面之间,并且
所述静电卡盘的底部包括第二电极,所述第二电极通过响应于施加到所述第二电极与所述金属层之一的第二电压而产生的第二静电引力,可控制地将所述上部保持到所述下部。
2.根据权利要求1所述的基板支撑件,其中:
所述静电卡盘的下部包括其中具有所述第二电极的底部陶瓷板,并且在向所述第二电极施加所述第二电压的情况下,在所述金属层和所述第二电极之间产生所述第二静电引力。
3.根据权利要求1所述的基板支撑件,其中,在向所述金属层施加所述第二电压的情况下,在所述金属层和所述第二电极之间产生所述第二静电引力。
4.根据权利要求1所述的基板支撑件,还包括一对接触端子,
所述一对接触端子在通过所述第二静电引力将所述上部保持到所述下部的情况下彼此电连接,并且
所述一对接触端子在所述上部与所述下部分离的情况下彼此电分离,其中,在通过所述第二静电引力将所述上部保持到所述下部的情况下,通过所述一对接触端子将来自第一电压源的所述第一电压施加到所述第一电极。
5.根据权利要求1所述的基板支撑件,还包括将所述静电卡盘的底部固定到所述基台的粘合材料,其中所述底部包括陶瓷板。
6.根据权利要求1所述的基板支撑件,还包括控制器电路,所述控制器电路被配置成:
终止向所述第二电极和所述金属层之一供应所述第二电压,从而可控制地去除所述静电卡盘的上部与所述静电卡盘的下部之间的第二静电引力,并且
控制致动器和升降器的操作以将所述静电卡盘的上部从所述静电卡盘的下部提起。
7.根据权利要求6所述的基板支撑件,其中:
所述基台和所述静电卡盘的下部设置在反应室中,并且
所述控制器电路还被配置成操作传输机械手,以便在未将所述反应室暴露于外部环境的情况下,用另一个上部来更换所述静电卡盘的上部。
8.根据权利要求1所述的基板支撑件,其中,所述第二电极是双极电极。
9.一种使用在反应室中的基板支撑件,所述基板支撑件包括:
基台;以及
静电卡盘,具有:
位于所述静电卡盘的上部的第一电极,被配置为在对所述第一电极施加第一电压的情况下,通过第一静电引力将晶片保持到所述上部的上表面,以及
第二电极,与所述基台的上表面相对,并且被配置为在对所述第二电极施加第二电压的情况下,通过第二静电引力将所述静电卡盘保持到所述基台,其中
在未向所述第二电极供应所述第二电压的情况下,不存在所述第二静电引力,并且所述静电卡盘被释放以进行原地更换,而无需移除所述基台,也无需将所述反应室暴露于外部环境中。
10.根据权利要求9所述的基板支撑件,还包括:
树脂片,设置在所述基台与所述静电卡盘的第二电极之间,所述树脂片是在对所述第二电极施加第二电压的情况下在其中保持静电场的介电材料。
11.根据权利要求10所述的基板支撑件,还包括:
导热片,设置在所述树脂片和所述基台之间。
12.根据权利要求11所述的基板支撑件,其中,所述基台的上表面与所述导热片直接接触。
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