[发明专利]等径环节功率SOP设定方法、系统、计算机设备和存储介质

权利要求书

1.一种等径环节功率SOP设定方法，其特征在于，步骤为：

S1：获取单晶拉制过程中不同炉台、不同炉次和不同成晶多维生产过程中等径环节功率的基础源数据；

S2：对获取的所述源数据进行处理，筛选并转换为每个晶体所述等径环节中易于识别和标记的若干功率参数，并获得该晶体的所述等径环节的所有所述功率数值的数据集；

S3：通过深度学习对每个所述晶体的所述等径环节中的每一所述功率的数值建立等径节点模型；

S4：所述等径节点模型通过算法选取历史最优曲线进行拟合优化，生成最优功率SOP设定；

S5：所述等径节点模型通过时间序列算法进行所述功率SOP迭代优化。

2.根据权利要求1所述的等径环节功率SOP设定方法，其特征在于：所述S5中所述功率SOP迭代优化步骤包括：所述等径节点模型自动分析出当前炉台SOP版本对应所有拉制出单晶功率曲线，并对所述功率缺陷匹配度进行拟合，通过大数据分析识别出当前炉次和炉台特性。

3.根据权利要求2所述的等径环节功率SOP设定方法，其特征在于：所述S5中所述功率SOP迭代优化步骤还包括：结合历史所述功率曲线拟合度及时间序列算法自动迭代优化当前炉次所述功率SOP。

4.根据权利要求1所述的等径环节功率SOP设定方法，其特征在于：每一晶体中所述等径环节的所有所述功率参数均被配制于拉制该晶体所在单晶炉的终端显示器中显示。

5.一种功率SOP设定系统，其特征在于，所述系统包括：

获取源数据单元：获取单晶拉制过程中不同炉台、不同炉次和不同成晶多维生产过程中等径环节功率的基础源数据；

处理源数据单元：对获取的所述源数据进行处理，筛选并转换为每个晶体所述等径环节中易于识别和标记的若干功率参数，并获得该晶体的所述等径环节的所有所述功率数值的数据集；

建立模型单元：通过深度学习对每个所述晶体的所述等径环节中的每一所述功率的数值建立等径节点模型；

生成SOP单元：所述等径节点模型通过算法选取历史最优曲线进行拟合优化，生成最优功率SOP设定；

迭代优化单元：所述等径节点模型通过时间序列等算法进行所述功率SOP迭代优化。

6.根据权利要求5所述的功率SOP设定系统，其特征在于，所述迭代优化单元中所述功率SOP迭代优化步骤包括：所述等径节点模型自动分析出当前炉台SOP版本对应所有拉制出单晶功率曲线，并对所述功率缺陷匹配度进行拟合，通过大数据分析识别出当前炉次和炉台特性。

7.根据权利要求5所述的功率SOP设定系统，其特征在于，所述迭代优化单元中所述功率SOP迭代优化步骤还包括：结合历史所述功率曲线拟合度及时间序列算法自动迭代优化当前炉次所述功率SOP。

8.根据权利要求5所述的功率SOP设定系统，其特征在于，每一晶体中所述等径环节的所有所述功率参数均被配制于拉制该晶体所在单晶炉的终端显示器中显示。

9.一种计算机设备，其特征在于，包括存储器和处理器；所述存储器存储有计算机程序；所述处理器，用于执行所述计算机程序，并在执行所述计算机程序时，使得所述处理器执行如权利要求1-4中任一项所述的等径环节功率SOP设定方法的步骤。

10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，存储有计算机程序，当所述计算机程序被所述处理器执行时，使所述处理器执行如权利要求1-4中任一项所述的等径环节功率SOP设定方法的步骤。