[发明专利]脉冲激光沉积装置及方法

权利要求书

1.一种脉冲激光沉积装置，其特征在于，包括：

反应腔，在所述反应腔的腔壁上设置有多个第二窗口，在所述反应腔的内部设置有用于固定基片台的支撑柱，位于基片台上方的第一加热元件和位于基片台下方的第二加热元件；

多个靶机，贯穿所述反应腔的侧壁，所述靶机的第二端固定有靶材，所述靶材位于所述反应腔内的所述基片台的上方和/或下方，所述靶材的表面与所述基片台的表面形成夹角；

多个激光装置，位于所述反应腔的外部，所述多个激光装置分别产生激光束，经由所述多个第二窗口入射到所述反应腔内的靶材表面上，

其中，所述第一加热元件和所述第二加热元件上分别具有缺口，多个激光装置的激光束沿平行于所述基片台表面的方向直线到达所述靶材表面，所述激光束照射所述靶材表面形成的等离子体经由所述第一加热元件和所述第二加热元件上的缺口到达所述基片台表面。

2.根据权利要求1所述的脉冲激光沉积装置，其特征在于，所述多个激光装置水平放置，以使所述激光束水平入射至所述靶材的倾斜表面上。

3.根据权利要求2所述的脉冲激光沉积装置，其特征在于，所述激光装置包括：

激光器，用于产生激光束；

驱动装置，与所述激光器连接，并且驱动所述激光器往复运动和垂直运动；

第一支架，所述驱动装置水平固定在所述第一支架上。

4.根据权利要求3所述的脉冲激光沉积装置，其特征在于，往复运动的所述激光装置的激光束在所述靶材表面上的光斑相对于所述基片台的中心沿径向运动。

5.根据权利要求4所述的脉冲激光沉积装置，其特征在于，所述光斑到达所述靶材表面相对于基片台的中心或边缘位置时，沿垂直方向平移所述激光装置，使所述激光束在所述靶材表面上的光斑向上或向下移动。

6.根据权利要求3所述的脉冲激光沉积装置，其特征在于，所述驱动装置控制所述激光器的运动速度，使得所述激光束在所述靶材表面上的光斑相对于所述基片台的中心沿中心向边缘径向运动的运动速度逐渐变慢。

7.根据权利要求1所述的脉冲激光沉积装置，其特征在于，所述靶机的第二端固定有多个靶材，多个靶材呈多边形分布。

8.根据权利要求7所述的脉冲激光沉积装置，其特征在于，所述多个靶材的材料相同或不同。

9.根据权利要求7所述的脉冲激光沉积装置，其特征在于，旋转所述靶机，更换所述激光束入射的靶材。

10.根据权利要求1所述的脉冲激光沉积装置，其特征在于，所述基片台的第一表面和第二表面分别具有至少一个基片。

11.根据权利要求1所述的脉冲激光沉积装置，其特征在于，还包括：

第二支架，位于所述反应腔的外部下方，与所述反应腔连接，用于固定所述反应腔；

第一电机，位于所述反应腔的外部上方，与所述基片台连接，用于控制所述基片台旋转；

真空装置，位于所述反应腔的外部侧壁，与所述反应腔连接，用于维持所述反应腔内的真空环境；

基片更换装置，位于所述反应腔的外部侧壁，与所述反应腔连接，用于更换所述基片台上的基片。

12.根据权利要求1所述的脉冲激光沉积装置，其特征在于，所述激光器为固态激光器或其他脉冲激光器。

13.根据权利要求1所述的脉冲激光沉积装置，其特征在于，所述第一加热元件和所述第二加热元件不与所述基片台接触，所述基片台在沉积薄膜时旋转。

14.根据权利要求13所述的脉冲激光沉积装置，其特征在于，所述第一加热元件和所述第二加热元件通电后对所述基片台进行辐照加热。