[发明专利]照明装置、缺陷检测系统、光刻机以及缺陷检测方法在审
申请号: | 202110592434.5 | 申请日: | 2021-05-28 |
公开(公告)号: | CN115406894A | 公开(公告)日: | 2022-11-29 |
发明(设计)人: | 杨晓青;韩雪山;张一志;申永强;顾杰 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88;G01N21/94;G03F7/20 |
代理公司: | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人: | 郑星 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 照明 装置 缺陷 检测 系统 光刻 以及 方法 | ||
1.一种照明装置,其特征在于,所述照明装置包括:沿光路依次设置的光照单元,光调整单元以及光分割单元;
所述光照单元用于提供线状光照,并传播至所述光调整单元;
所述光调整单元用于调整所述光照的发散角至预设值,且调整后的所述光照为远心光照;
所述光分割单元用于将经所述光调整单元后的所述光照分割为至少两束子光照;所述至少两束子光照交错分布且光强相互叠加形成的光斑包括呈平顶高斯分布的光斑。
2.根据权利要求1所述的照明装置,其特征在于,在同一像面上,所述至少两束子光照交错分布且光强相互叠加形成的所述光斑在长度方向上光强均匀,且在宽度方向上的部分光强呈平顶高斯分布;其中,所述长度方向和所述宽度方向相互垂直。
3.根据权利要求1所述的照明装置,其特征在于,所述光分割单元包括楔形基板,所述光照经所述光调整单元后,透过所述楔形基板,以形成所述至少两束子光照。
4.根据权利要求3所述的照明装置,其特征在于,所述光分割单元还包括平板玻璃。
5.根据权利要求4所述的照明装置,其特征在于,所述平板玻璃和所述楔形基板拼接设置;部分所述光照经所述平板玻璃透射,部分所述光照经所述楔形基板透射。
6.根据权利要求4所述的照明装置,其特征在于,所述平板玻璃和所述楔形基板相互叠置;部分所述光照经所述平板玻璃透射,部分所述光照依次经所述平板玻璃和所述楔形基板透射。
7.根据权利要求1所述的照明装置,其特征在于,所述发散角的预设值范围为:大于20度且小于90度。
8.根据权利要求1所述的照明装置,其特征在于,所述光调整单元包括柱面微透镜阵列、鲍威尔棱镜和\或扩散片。
9.根据权利要求1所述的照明装置,其特征在于,所述照明装置还包括:扩束镜和准直镜组;其中,
所述扩束镜用于将所述光照经扩束,使所述光照的直径被扩大且能平行传播至所述光调整单元;
所述准直镜组用于保持经所述光分割单元输出的交错分布的所述至少两束子光照的准直性。
10.一种缺陷检测系统,其特征在于,所述缺陷检测系统包括如权利要求1-9中任意一项所述的照明装置和成像探测装置;其中,
所述照明装置用于提供光斑,以作为测量光,并将所述测量光投射至具有缺陷的待测物上,所述测量光在所述缺陷处发生散射并产生散射光;其中,所述照明装置提供的所述光斑包括呈平顶高斯分布的光斑;
所述成像探测装置用于接收和探测所述散射光,并对探测到的信息进行处理,以获得所述缺陷的信息。
11.根据权利要求10所述的缺陷检测系统,其特征在于,所述缺陷的信息包括所述缺陷的等效尺寸以及位置坐标。
12.根据权利要求10所述的缺陷检测系统,其特征在于,所述缺陷检测系统还包括焦面测量装置、第一运动台和第二运动台;其中,
所述焦面测量装置用于测量所述待测物相对于所述成像探测装置的位置;
所述第一运动台用于调整所述待测物相对于所述成像探测装置在第一方向上的间距;
所述第二运动台用于承载所述待测物并带动所述待测物沿第二方向移动,以实现所述测量光扫描所述待测物的整个表面。
13.根据权利要求12所述的缺陷检测系统,其特征在于,所述第一方向和所述第二方向相互垂直。
14.根据权利要求10所述的缺陷检测系统,其特征在于,所述成像探测装置包括成像探测镜组以及探测器;所述成像探测镜组用于汇聚所述散射光,并传递至所述探测器中;所述探测器用于检测所述散射光并对检测到的信息进行处理,以获得所述缺陷信息。
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