[发明专利]抗菌膜材及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110593039.9 申请日: 2021-05-28
公开(公告)号: CN113322431A 公开(公告)日: 2021-08-31
发明(设计)人: 杨帆;于静雯;孟凡理;丁丁 申请(专利权)人: 北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/16 分类号: C23C14/16;C23C28/00;C25D9/04;C25D11/02;C25D11/04;A01N59/16;A01N59/20;A01N25/34;A01P1/00;A01P3/00
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 李迎亚;姜春咸
地址: 100176 北京市北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 抗菌 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种抗菌膜材,其特征在于,包括:

基底;

设置在所述基底上的微纳抗菌层,所述微纳抗菌层包括多个纳米微结构,每个所述纳米微结构的纵横比在第一范围内,以使落在所述纳米微结构上的微生物细胞的细胞膜发生弹性形变,且所述弹性形变超过其弹性极限。

2.根据权利要求1所述的抗菌膜材,其特征在于,所述纳米微结构的纵横比的范围包括2-5。

3.根据权利要求1所述的抗菌膜材,其特征在于,多个所述纳米微结构至少包括第一纳米微结构和第二纳米微结构,所述第一纳米微结构与所述第二纳米微结构的类型不同;所述类型包括:所述纳米微结构的纵横比、形状、材料中的至少一者。

4.根据权利要求3所述的抗菌膜材,其特征在于,所述第一纳米微结构与所述第二纳米微结构在所述基底上间隔均匀排布。

5.根据权利要求4所述的抗菌膜材,其特征在于,第一纳米微结构的纵横比大于所述第二纳米微结构的纵横比;

至少在第一方向上,相邻两个所述第一纳米微结构之间设置有至少一个所述第二纳米微结构。

6.根据权利要求1所述的抗菌膜材,其特征在于,多个所述纳米微结构在所述基底上呈阵列排布。

7.根据权利要求1至6中任意一项所述的抗菌膜材,其特征在于,所述抗菌膜材至少包括第一区和第二区,所述第一区中所述纳米微结构的排布方式与所述第二区中所述纳米微结构的排布方式不同;

所述排布方式至少包括:所述纳米微结构的类型、所述纳米微结构的排布密度、所述纳米微结构的排布规则中的至少一者。

8.根据权利要求1所述的抗菌膜材,其特征在于,所述纳米微结构的形状包括柱状、环状和网状中的至少一种。

9.根据权利要求8所述的抗菌膜材,其特征在于,柱状的所述纳米微结构的直径包括50-100nm,高度包括100-400nm;

和/或,环状的所述纳米微结构的直径包括100-200nm,高度包括200-400nm;

和/或,网状的所述纳米微结构的孔径包括100-200nm,高度包括100-400nm。

10.根据权利要求1所述的抗菌膜材,其特征在于,所述纳米微结构的材料包括抗菌金属。

11.根据权利要求1所述的抗菌膜材,其特征在于,所述基底包括玻璃、树脂中的至少一者。

12.一种抗菌膜材的制备方法,用于形成权利要求1至11中任意一项所述的抗菌膜材,其特征在于,所述制备方法包括:

在基底上形成图案化的牺牲层;

在形成有所述牺牲层的基底上微纳抗菌膜层;

去除所述牺牲层,以形成所述微纳抗菌层。

13.根据权利要求12所述的制备方法,其特征在于,所述在基底上形成图案化的牺牲层的步骤包括:

在基底上形成金属铝膜层;

将金属铝膜层阳极氧化成包括多个纳米微结构的氧化铝;

去除氧化铝上残留的金属铝,以形成图案化的牺牲层。

14.根据权利要求12所述的制备方法,其特征在于,所述在形成有所述牺牲层的基底上微纳抗菌膜层的步骤包括:

通过电沉积工艺在形成有牺牲层的基底上形成金属层,以形成微纳抗菌膜层。

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