[发明专利]高真空磁控溅射界面辅助提高玻璃焊接强度的方法在审

专利信息
申请号: 202110596430.4 申请日: 2021-05-31
公开(公告)号: CN113387601A 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 林奈;王聪;张世福 申请(专利权)人: 西南电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十研究所)
主分类号: C03C27/08 分类号: C03C27/08;C03C17/06
代理公司: 成飞(集团)公司专利中心 51121 代理人: 郭纯武
地址: 610036 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 真空 磁控溅射 界面 辅助 提高 玻璃 焊接 强度 方法
【权利要求书】:

1.一种高真空磁控溅射界面辅助提高玻璃焊接强度的方法,其特征在于:在焊接所需设备之高重频超快激光器(1)的前端设置45°倾斜面的全反射镜(2),以及沿全反射镜(2)倾斜面垂直光路上方,按45°倾斜分布镜像对称的八字俯视全反射镜组成反向U形光路;电控三维运动平台(3),高重频超快激光器1产生的超短脉冲光束,通过全反射镜(2)改变方向传递到反向U形光路末端45°俯视全反射镜,将竖直向下射出的超快激光光束(8)传递到光阑(10),通过光阑(10)调节光斑大小,再通过聚焦镜(9)聚焦到固定在电控三维运动平台定位夹具上的两叠合待焊玻璃片的交界面处,超快激光光束(8)穿过装夹在上待焊玻璃叠合玻璃片(6)与下待焊玻璃叠合玻璃片(4)的金属膜(5),将超快激光产生的峰锥光丝7通过预定的二维扫描轨迹,在金属膜(5)扫描轨迹焦点界面上产生非线性吸收效应的熔池,冷却后形成致密的焊缝。

2.如权利要求1所述的真空磁控溅射界面辅助提高玻璃焊接强度的方法,其特征在于:镀金属膜(5)镀膜在下待焊玻璃片(4)上。

3.如权利要求1所述的真空磁控溅射界面辅助提高玻璃焊接强度的方法,其特征在于:下待焊玻璃片(4)与上待焊玻璃片(6)之间的间隙小于1微米。

4.如权利要求1所述的真空磁控溅射界面辅助提高玻璃焊接强度的方法,其特征在于:为了保证焊接后两待焊玻璃片品样不脱落,焊接总面积≥1平方毫米。

5.如权利要求1所述的真空磁控溅射界面辅助提高玻璃焊接强度的方法,其特征在于:超短脉冲激光射出的激光为近红外光,其波长为1030nm,脉冲宽度为215fs,重复频率为75kHz-615kHz,平均功率1W-10W。

6.如权利要求1所述的真空磁控溅射界面辅助提高玻璃焊接强度的方法,其特征在于:下待焊玻璃片(4)与上待焊玻璃片(6)为两片石英玻璃,利用高真空磁控溅射系统单面镀50nm-100nm厚的镍膜,扫描速度为1000μm/s-2000μm/s。

7.如权利要求1所述的真空磁控溅射界面辅助提高玻璃焊接强度的方法,其特征在于:扫描为“几”字型,线间距为50μm-200μm,扫描面积为1×1mm2-10×10mm2

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