[发明专利]等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，具备：

腔室(11)，其具有等离子体处理空间；

大致圆形的天线(54)，其配置于所述等离子体处理空间的上方，所述大致圆形的天线(54)具有第一线路(540)和第二线路(540)；

高频电源(61)，其与所述天线(54)连接；

第一绝缘保持部(55)，其保持所述第一线路(540)；以及

第二绝缘保持部(55)，其保持所述第二线路(540)，

其中，所述第一线路(540)和所述第二线路(540)在所述天线(54)的径向(A)上相邻，

所述第一绝缘保持部(55)与所述第二绝缘保持部(55)之间的距离(d2)比所述第一线路(540)与所述第二线路(540)之间的距离(d1)大。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述第一绝缘保持部(55)与所述第二线路(540)之间的距离(d3)比所述第一线路(540)与所述第二线路(540)之间的距离(d1)的1/2大。

3.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述第一绝缘保持部(55)在所述天线(54)的周向(B)上配置于与所述第二绝缘保持部(55)不同的位置。

4.根据权利要求1～3中的任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述天线(54)包括具有所述第一线路(540)和所述第二线路(540)的螺旋状的平面线圈。

5.根据权利要求1～3中的任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述天线(54)包括沿着具有第一半径的第一圆的圆周配置的第一线圈以及沿着具有与所述第一半径不同的第二半径的第二圆的圆周配置的第二线圈，所述第一线圈和所述第二线圈分别具有两个端子，所述第一线圈具有所述第一线路(540)，所述第二线圈具有所述第二线路(540)。

6.根据权利要求1～3中的任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述天线(54)包括具有所述第一线路(540)和所述第二线路(540)的回转型线圈，所述第一绝缘保持部(55)的高度与所述第二绝缘保持部(55)的高度不同。

7.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其特征在于，还具备：

电介质窗(53)，其配置于所述等离子体处理空间与所述天线(54)之间；以及

导电性屏蔽箱(51)，其覆盖所述天线(54)，

其中，所述第一绝缘保持部(55)和所述第二绝缘保持部(55)固定于所述电介质窗(53)和所述导电性屏蔽箱(51)中的至少一方。

8.根据权利要求7所述的等离子体处理装置，其特征在于，还具备：

第一绝缘支承部(56)，其将所述第一绝缘保持部(55)固定于所述导电性屏蔽箱(51)；以及

第二绝缘支承部(56)，其将所述第二绝缘保持部(55)固定于所述导电性屏蔽箱(51)。

9.根据权利要求7所述的等离子体处理装置，其特征在于，还具备：

连结部(561)，其固定于所述导电性屏蔽箱(51)；

第一绝缘支承部(562)，其将所述第一绝缘保持部(55)固定于所述连结部(561)；以及

第二绝缘支承部(562)，其将所述第二绝缘保持部(55)固定于所述连结部(561)。

10.根据权利要求7所述的等离子体处理装置，其特征在于，还具备：

第一绝缘支承部(56)，其将所述第一绝缘保持部(55)固定于所述电介质窗(53)；以及

第二绝缘支承部(56)，其将所述第二绝缘保持部(55)固定于所述电介质窗(53)。