[发明专利]曝光用光源、光照射装置、曝光装置及曝光方法

权利要求书

1.一种曝光用光源，具备：

第一光源，具有LED；以及

第二光源，由对波长比从所述第一光源中的所述LED放射的LED光的波长短的光进行放射的光源构成。

2.根据权利要求1所述的曝光用光源，其特征在于，

来自所述第二光源的光对来自所述第一光源的光中不足的波长区域的光量进行补充。

3.一种光照射装置，具备：

权利要求1或2所述的曝光用光源；以及

光学系统器具，至少具有积分透镜，将来自所述第一光源及所述第二光源的光引导至曝光面，

在所述第一光源的发光过程中，所述第二光源位于从所述光学系统器具的光路偏离的位置，

在所述第二光源发光时，所述第二光源独自照射所述积分透镜。

4.一种光照射装置，具备：

权利要求1或2所述的曝光用光源；以及

光学系统器具，至少具有积分透镜，将来自所述第一光源及所述第二光源的光引导至曝光面，

所述第一光源位于从所述光学系统器具的光路偏离的位置，

所述第二光源位于所述光学系统器具的光路上，

在所述第一光源发光时，所述第一光源独自照射所述积分透镜。

5.一种光照射装置，具备：

权利要求1或2所述的曝光用光源；以及

光学系统器具，将来自所述第一光源及所述第二光源的光引导至曝光面，

在所述第一光源的发光过程中，所述第二光源位于从所述光学系统器具的光路偏离的位置，

在所述第二光源发光时，所述第二光源直接地独自照射所述曝光面。

6.一种光照射装置，具备：

权利要求1或2所述的曝光用光源；以及

光学系统器具，将来自所述第一光源及所述第二光源的光引导至曝光面，

在所述第一光源的发光过程中，所述第二光源位于从所述光学系统器具的光路偏离的位置，

在所述第二光源发光时，所述第二光源代替所述第一光源而位于所述光学系统器具的所述光路。

7.一种曝光装置，具备权利要求3至6中任一项所述的光照射装置。

8.一种曝光方法，包括如下处理：

准备第一光源和第二光源，所述第一光源具有LED，所述第二光源由对波长比从所述第一光源中的所述LED放射的LED光的波长短的光进行放射的光源构成，

根据进行曝光的抗蚀剂的特性，利用来自所述第一光源的所述LED光或来自所述第二光源的所述光来进行所述抗蚀剂的光反应。

9.一种曝光方法，包括如下处理：

准备第一光源和第二光源，所述第一光源具有LED，所述第二光源由对波长比从所述第一光源中的所述LED放射的LED光的波长短的光进行放射的光源构成，

利用来自所述第二光源的光将为了使抗蚀剂引发光反应所需的波长的光照射到所述抗蚀剂，然后，

利用来自所述第一光源的光来进行所述抗蚀剂的光反应。