[发明专利]一种低泡沫的有机硅表面活性剂及其制备方法和应用

说明书

本发明涉及有机硅表面活性剂新材料技术领域，尤其涉及一种低泡沫的有机硅表面活性剂及其制备方法和应用。一种低泡沫的有机硅表面活性剂，其结构为如图1所示，其中：m=1‑10，n=0‑10，x=2‑9，a=1‑20，b=0‑20，R=H、CH₃、CH₃COO、CH₂CH₃、CH₂CH₃（CH₃）、（CH₂）₂CH₃、（CH₂）₃CH₃或（CH₂）₂（CH₃）₂。本发明提供一种低泡沫的有机硅表面活性剂，解决了现有技术中泡沫过量的问题。本发明的方法不需要溶剂，可以减少有机挥发物的排放，实现绿色生产。

技术领域

本发明涉及有机硅表面活性剂新材料技术领域，尤其涉及一种低泡沫的有机硅表面活性剂及其制备方法和应用。

背景技术

有机硅产品通常是指含有Si-O键为骨架组成的一类化合物，与一般有机物相比，有机硅化合物或聚合物具有非常独特的性质如：良好的耐温特性、介电性、耐候性、生理惰性、低表面力等。有机硅化合物已经被广泛应用到建筑、日化、纺织、医疗、电子电气、汽车、农业等领域。

目前，市售农药用有机硅助剂大都是非离子型三硅氧烷表面活性剂，如美国迈图高新材料基团(原GE公司)的Silwet系列。这类表活有着非常低的表面力，很好的润湿能力与扩展能力，是目前有机硅表活农业上应用最为广泛与成熟的一类。然而，因有机硅表面活性极强，容易产生泡沫过量，通常，使用时要最后加入，同时需要加入消泡剂来控制泡沫量，并且要避免过度搅拌引起的泡沫。

过度的泡沫给使用带来不便，加入消泡剂增加成本的同时还会降低其表面活性。

发明内容

本发明的一个目的在于提供一种低泡沫的有机硅表面活性剂，以解决现有技术中泡沫过量的问题。本发明的另一个目的是提供该有机硅表面活性剂的制备方法，该方法不需要溶剂，可以减少有机挥发物的排放，实现绿色生产。

为实现上述的一个目的，本发明提供如下技术方案：

一种低泡沫的有机硅表面活性剂，其结构为：

其中：m＝1-10，n＝0-10，x＝2-9，a＝1-20，b＝0-20，R＝H、CH₃、CH₃COO或C2-C5烷基。

优选，C2-C5烷基为CH₂CH₃、CH(CH₃)₂、CH₂ CH₂CH₃、CH₂ CH₂ CH₂CH₃或CH₂ CH(CH₃)₂。

优选，m＝1-5，n＝0-5，a＝1-10；b＝0-8。

优选，R＝H、CH₃、CH₃COO、CH₂CH₃或CH₂CH₃(CH₃)。

进一步，本发明还公开了所述的有机硅表面活性剂的制备方法，该方法由通式Ⅰ的含氢聚硅氧烷和通式Ⅱ的聚醚在金属催化剂及抗氧剂存在下合成；

通式Ⅰ：