[发明专利]工件表面形貌的扫描方法、扫描系统及存储介质

权利要求书

1.一种工件表面形貌的扫描方法，其特征在于，包括：

对待测工件的待测表面进行区域划分，得到多个视场区；

从初始视场区开始，按照设定的顺序对所有视场区进行聚焦扫描，以获取各个视场区的实际聚焦面位置；

在各视场区的实际聚焦面位置获取各视场区的图像，得到待测工件的表面形貌；

其中，对非初始视场区进行聚焦扫描包括：

获取与当前待检测非初始视场区相邻的前一个视场区的实际聚焦面位置；

根据已检测的邻近视场区的实际聚焦面位置得到当前待检测非初始视场区的扫描区间；

控制测量探头在扫描区间内作垂直于待测表面的移动，以对所述非初始视场区进行聚焦扫描，获取所述非初始视场区的聚焦面位置；

其中，所述根据已检测的邻近视场区的实际聚焦面位置得到当前待检测非初始视场区的扫描区间，包括：

获取当前待检测非初始视场区的前一个视场区的实际聚焦面位置，记为第一位置；

获取当前待检测非初始视场区的前两个视场区的实际聚焦面位置，记为第二位置；

根据所述第一位置和第二位置，计算所述当前待检测非初始视场区的聚焦面预测位置；

将所述聚焦面预测位置加上一个第一距离量值形成上限、减去一个第二距离量值形成下限，根据所述上限和下限得到一个距离区间；其中，所述第一距离量值和所述第二距离量值小于初始视场区的预设扫描区间的零点位置与上限位置或下限位置的距离差的绝对值；

以所述距离区间作为当前待检测非初始视场区的扫描区间。

2.如权利要求1所述的扫描方法，其特征在于，所述根据所述第一位置和第二位置，计算所述当前待检测非初始视场区的聚焦面预测位置，包括：

计算所述第一位置与第二位置的差值，得到偏量距离量值；

将所述第一位置加上一个偏量距离量值，得到所述当前待测非初始视场区的聚焦面预测位置。

3.如权利要求2所述的扫描方法，其特征在于，所述第一距离量值和/或第二距离量值为偏量距离量值与一固定量值之和。

4.如权利要求1所述的扫描方法，其特征在于，对初始视场区进行聚焦扫描包括：

获取所述初始视场区的预设扫描区间；

控制测量探头在所述预设扫描区间内作垂直于待测表面的移动，以对所述初始视场区进行聚焦扫描，获取所述初始视场区的实际聚焦面位置。

5.一种工件表面形貌的扫描系统，其特征在于，包括：

测量探头，用于对待测工件表面划分的多个视场区按照设定的顺序逐一进行聚焦扫描，并在聚焦面位置获取当前视场区的图像；以及

处理器，用于控制所述测量探头从初始视场区开始，按照设定的顺序对所有视场区进行聚焦扫描，获取各个视场区的实际聚焦面位置，并在各个视场区的实际聚焦面位置获取各视场区的图像，以得到待测工件的表面形貌；其中，对非初始视场区进行聚焦扫描包括：

获取与当前待检测非初始视场区相邻的前一个视场区的实际聚焦面位置；

根据已检测的邻近视场区的实际聚焦面位置得到当前待检测非初始视场区的扫描区间；

控制所述测量探头在扫描区间内作垂直于待测表面的移动，以对所述非初始视场区进行聚焦扫描，获取所述非初始视场区的聚焦面位置；

其中，所述根据已检测的邻近视场区的实际聚焦面位置得到当前待检测非初始视场区的扫描区间，包括：

获取当前待检测非初始视场区的前一个视场区的实际聚焦面位置，记为第一位置；

获取当前待检测非初始视场区的前两个视场区的实际聚焦面位置，记为第二位置；

根据所述第一位置和第二位置，计算所述当前待检测非初始视场区的聚焦面预测位置；

将所述聚焦面预测位置加上一个第一距离量值形成上限、减去一个第二距离量值形成下限，根据所述上限和下限得到一个距离区间；其中，所述第一距离量值和所述第二距离量值小于初始视场区的预设扫描区间的零点位置与上限位置或下限位置的距离差的绝对值；

以所述距离区间作为当前待检测非初始视场区的扫描区间。