[发明专利]一种基于宇称-时间对称的全光开关在审
申请号: | 202110603813.X | 申请日: | 2021-05-31 |
公开(公告)号: | CN113156741A | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 刘芳华 | 申请(专利权)人: | 湖北科技学院 |
主分类号: | G02F3/02 | 分类号: | G02F3/02 |
代理公司: | 咸宁鸿信专利代理事务所(普通合伙) 42249 | 代理人: | 刘喜 |
地址: | 437100 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 时间 对称 开关 | ||
1.一种基于宇称-时间对称的全光开关,其特征在于,包括石墨烯单层(G),所述石墨烯单层(G)的两侧分别具有非周期光子晶体一和非周期光子晶体二,所述非周期光子晶体一由石墨烯单层(G)至入射侧依次设置有第二电介质层(B)、第一电介质层(A)、第一电介质层(A)、第二电介质层(B)、第一电介质层(A)、第二电介质层(B)、第二电介质层(B)、第一电介质层(A),所述非周期光子晶体二由石墨烯单层(G)至出射侧依次设置有第四电介质层(B')、第三电介质层(A')、第三电介质层(A')、第四电介质层(B')、第三电介质层(A')、第四电介质层(B')、第四电介质层(B')、第三电介质层(A'),所述第一电介质层(A)和第三电介质层(A')折射率共轭相等,所述第二电介质层(B)和第四电介质层(B')折射率共轭相等。
2.根据权利要求1所述一种基于宇称-时间对称的全光开关,其特征在于,所述第一电介质层(A)、第二电介质层(B)、第三电介质层(A')和第四电介质层(B')均为二氧化硅。
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