[发明专利]一种发光器件、制备方法和显示装置在审

专利信息
申请号: 202110604452.0 申请日: 2021-05-31
公开(公告)号: CN113346028A 公开(公告)日: 2021-09-03
发明(设计)人: 马彬彬;张伟;吴欣慰;李杰;陈昱伶;王凌飞;朱大勇;郭建磊;唐新淞 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 胡影;李红标
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 发光 器件 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种发光器件,其特征在于,包括:

平坦层,所述平坦层的一侧设有第一电极;

像素界定层,所述像素界定层位于所述平坦层的设有所述第一电极的一侧;

隔绝层,所述隔绝层位于所述平坦层上的非像素区域,部分所述像素界定层与所述平坦层之间设有所述隔绝层,在所述平坦层上设有凹槽,所述凹槽围绕所述隔绝层的周向延伸,且所述凹槽的部分延伸至所述隔绝层的朝向所述平坦层的一侧,所述像素界定层上与所述凹槽相对应的位置设有沿所述像素界定层的厚度方向贯穿的贯通槽,所述贯通槽与所述凹槽连通。

2.根据权利要求1所述的发光器件,其特征在于,所述像素界定层包括第一像素界定层图形与第二像素界定层图形,所述隔绝层位于所述第一像素界定层图形与所述平坦层之间,所述第一像素界定层图形相对于所述平坦层的高度大于所述第二像素界定层图形相对于所述平坦层的高度。

3.根据权利要求1所述的发光器件,其特征在于,所述隔绝层包括金属材料和金属氧化物材料中的至少一种。

4.根据权利要求3所述的发光器件,其特征在于,所述隔绝层与所述第一电极同层同材料设置。

5.根据权利要求1所述的发光器件,其特征在于,所述贯通槽在所述平坦层上的正投影为环形状,所述凹槽在所述平坦层上的正投影为环形状。

6.根据权利要求5所述的发光器件,其特征在于,所述贯通槽在所述平坦层上的正投影与所述凹槽在所述平坦层上的正投影的轴线重合。

7.根据权利要求1所述的发光器件,其特征在于,所述隔绝层在所述平坦层上的正投影与所述凹槽在所述平坦层上的正投影的重合区域为环形状。

8.一种发光器件的制备方法,其特征在于,包括:

形成平坦层;

在所述平坦层的一侧形成第一电极;

在部分所述平坦层上的非像素区域形成隔绝层;

在所述平坦层的设有所述第一电极的一侧形成像素界定层图形和凹槽;

其中,在所述像素界定层图形上具有沿所述像素界定层图形的厚度方向贯穿的贯通槽,所述贯通槽位于所述隔绝层的边缘区域,所述凹槽位于所述平坦层的与所述贯通槽对应的区域,所述贯通槽与所述凹槽连通,所述凹槽围绕所述隔绝层的周向延伸且所述凹槽的部分延伸至所述隔绝层的朝向所述平坦层的一侧。

9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,在所述平坦层的设有所述第一电极的一侧形成像素界定层图形和凹槽的步骤包括:

在所述平坦层的设有所述第一电极的一侧形成像素界定层图形;

在所述平坦层的与所述贯通槽对应的区域形成所述凹槽。

10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-7中任一项所述的发光器件。

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