[发明专利]一种高性能透明电磁防护材料及其制备方法

权利要求书

1.一种高性能透明电磁防护材料，其特征在于：电磁防护材料包括玻璃基片，以及依次设置在玻璃基片上的第一功能膜组、第二功能膜组、第三功能膜组，第三功能膜组的表面上镀制顶部保护层；

第一功能膜组、第二功能膜组、第三功能膜组均包括光学介质层下层、导电陶瓷屏蔽层和光学介质层上层，光学介质层下层、导电陶瓷屏蔽层和光学介质层上层形成低/中/高折射率的递进结构；

第三功能模组的光学介质层上层材料为SiOx，厚度为50-130nm，第一功能膜组的光学介质层上层和下层、第二功能膜组的光学介质层上层和下层、第三功能膜组的光学介质层下层的材料为SiAlNx、ZnAlOx、TiOx、NbOx中的一种或多种，厚度为5nm~50nm；

导电陶瓷屏蔽层的材料为InSnOx，导电陶瓷屏蔽层厚度为90nm-130nm，Sn：In的比例为5-15：85-95。

2.根据权利要求1所述的一种高性能透明电磁防护材料，其特征在于：Sn：In的比例为12：88。

3.根据权利要求1所述的一种高性能透明电磁防护材料，其特征在于：顶部保护层的材料为SiNx、SiAlNx、CrNx、NiCrNx、NiCrOx、TiOx、ZrOx中的一种或多种，顶部保护层厚度为5nm~50nm。

4.根据权利要求1所述的一种高性能透明电磁防护材料，其特征在于：顶部保护层的材料为TiOx、ZrOx中的一种或两种，顶部保护层的厚度为10nm-30nm。

5.根据权利要求1所述的一种高性能透明电磁防护材料，其特征在于：玻璃基片为K9玻璃。

6.根据权利要求1所述的一种高性能透明电磁防护材料，其特征在于：电磁防护材料的可见光透过率≥90%；膜层面电阻≤5Ω/□；100MHz-14GHz的宽幅带电磁屏蔽效率为-30dB至-35dB。

7.权利要求1-6任意一项所述的一种高性能透明电磁防护材料的制备方法，其特征在于：制备方法包括以下步骤：

（1）基片清洗：将K9玻璃用去离子水进行清洗，并进行烘干处理以除去基材表面的吸附水；

（2）抽真空：先将镀膜室的真空度预先调至1*E-7mbar；镀制过程中，镀膜室中充入溅射气体Ar和反应气体O₂或N₂，使真空度维持在1*E-4mbar；

（3）镀制膜层：将洁净的K9玻璃基片送入镀膜室，通过磁控溅射依次镀制第一功能膜组、第二功能膜组、第三功能膜组和顶部保护层；

（4）高温热处理：膜层镀制好之后，在热处理炉中通入O₂增加氧分压到20%-40%，膜层从室温慢速以50-60℃/分钟的速度进行加热至400-500℃，快速以120-150℃/分钟的速度进行升温至700-800℃，然后再保温80-120秒，自然冷却或吹风冷却到室温。

8.权利要求1-6任意一项所述的一种高性能透明电磁防护材料在电磁屏蔽的透明保护罩、装甲车辆、军需运输车辆、电磁保密室的玻璃窗、电子/电磁仪器装备的视窗或触屏中的应用。