[发明专利]一种显示面板及其修复方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 202110606336.2 申请日: 2021-05-27
公开(公告)号: CN113327530B 公开(公告)日: 2022-06-03
发明(设计)人: 李家欣 申请(专利权)人: 武汉天马微电子有限公司
主分类号: G09G3/00 分类号: G09G3/00;G09G3/32;H01L25/16
代理公司: 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 代理人: 刘贺秋
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 显示 面板 及其 修复 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示面板的修复方法,其特征在于,包括:

检测出现故障的至少一个第一显示单元;所述显示面板包括衬底基板、阵列层以及多个所述第一显示单元,所述阵列层位于所述衬底基板的一侧,所述第一显示单元位于所述阵列层远离所述衬底基板的一侧;所述阵列层包括第一电极和第二电极,所述第一电极包括预设区域;所述第一显示单元分别与所述第一电极、所述第二电极连接,多个所述第一显示单元呈阵列排布;

对所述预设区域进行离子掺杂处理,以使所述预设区域的电阻增大;

设置第二显示单元,所述第二显示单元用于替代出现故障的第一显示单元;所述第二显示单元位于所述阵列层远离所述衬底基板的一侧,所述第二显示单元分别与所述第一电极、所述第二电极连接;所述预设区域为所述第一显示单元与所述第二显示单元之间的第一电极区域。

2.根据权利要求1所述的显示面板的修复方法,其特征在于,所述对所述预设区域进行离子掺杂处理包括:

对所述预设区域进行第二预设离子掺杂;

其中,所述预设区域由硅系材料构成;所述预设区域在故障检测之前已经掺杂有第一预设离子,所述第二预设离子的掺杂类型与所述第一预设离子的掺杂类型相反。

3.根据权利要求2所述的显示面板的修复方法,其特征在于,所述对所述预设区域进行第二预设离子掺杂包括:

调节第二预设离子的掺杂浓度,并使第二预设离子的掺杂浓度与第一预设离子的掺杂浓度相同。

4.根据权利要求2或3所述的显示面板的修复方法,其特征在于,所述对所述预设区域进行第二预设离子掺杂包括:

对所述预设区域进行P型掺杂;

其中,所述预设区域在故障检测之前已经进行N型掺杂。

5.根据权利要求1所述的显示面板的修复方法,其特征在于,所述对所述预设区域进行离子掺杂处理包括:

在所述第一电极远离衬底基板的一侧设置掩模,以及基于所述掩模对所述预设区域进行离子掺杂处理。

6.根据权利要求5所述的显示面板的修复方法,其特征在于,所述在所述第一电极远离衬底基板的一侧设置掩模,以及基于所述掩模对所述预设区域进行离子掺杂处理包括:

在所述第一电极远离衬底基板的一侧形成具有第一通孔的掩模;其中,所述第一通孔与所述预设区域在空间位置上相对应;

通过所述第一通孔对所述预设区域进行离子掺杂处理;

完成所述离子掺杂处理后,去掉所述掩模。

7.根据权利要求6所述的显示面板的修复方法,其特征在于,所述形成具有第一通孔的掩模包括:

利用掩膜版形成掩模,并使第一通孔的尺寸大于预设区域的尺寸。

8.根据权利要求6所述的显示面板的修复方法,其特征在于,所述形成具有第一通孔的掩模包括:

涂布一层光刻胶;

根据掩膜版图案在所述光刻胶上形成第一通孔图案;

将具有所述第一通孔图案的光刻胶作为所述掩模。

9.根据权利要求1所述的显示面板的修复方法,其特征在于,所述对所述预设区域进行离子掺杂处理包括:

在多个第一电极远离衬底基板的一侧设置挡板,以及基于所述挡板对所述多个第一电极同时进行离子掺杂处理。

10.根据权利要求9所述的显示面板的修复方法,其特征在于,在多个第一电极远离衬底基板的一侧设置挡板,以及基于所述挡板对所述多个第一电极同时进行离子掺杂处理包括:

在多个第一电极远离衬底基板的一侧放置具有第二通孔的挡板;其中,所述第二通孔与所述预设区域在空间位置上相对应;

通过所述第二通孔对多个预设区域同时进行离子掺杂处理;

完成所述离子掺杂处理后,移除所述挡板。

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