[发明专利]一种低成本真空镀膜用靶有效
| 申请号： | 202110606892.X | 申请日： | 2021-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN113293352B | 公开（公告）日： | 2022-05-17 |
| 发明（设计）人： | 张法亮;单丹丹;张法治 | 申请（专利权）人： | 深圳市千禾盛科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市坪山区坪山街道和平社*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 低成本 真空镀膜 | ||
【权利要求书】：
1.一种低成本真空镀膜用靶，其特征在于，包括由外至内依次套接的靶体管、过渡层和内衬管；
所述靶体管两端设置管接头，可通过所述管接头与镀膜设备连接；
所述靶体管、所述过渡层以及所述内衬管的两端密封连接；
所述内衬管的中空结构形成冷却管路；
所述密封连接包括焊接、铜圈密封连接、橡胶圈密封连接或聚四氟乙烯密封连接；
所述过渡层采用高分子树脂、石墨、无机盐、氧化物中的一种或多种组合；
所述内衬管采用不锈钢、碳钢、铜、铜合金、铝、铝合金中的任一种材料；
所述靶体管与所述过渡层和所述内衬管依次套接后，进行轧制压延。
2.根据权利要求1所述的一种低成本真空镀膜用靶，其特征在于，所述管接头为螺纹结构。
3.根据权利要求1所述的一种低成本真空镀膜用靶，其特征在于，所述氧化物包括氧化钛、氧化锆、氧化铌、氧化钽、氧化钼中的任一种。
4.根据权利要求3所述的一种低成本真空镀膜用靶，其特征在于，所述过渡层为所述靶体管组成材料的氧化物。
5.根据权利要求1所述的一种低成本真空镀膜用靶，其特征在于，所述靶体管采用钛、钛合金、锆、锆合金、钽、钽合金、铌、铌合金、铬、铬合金、钼、钼合金、高纯铜、银中的任一种材料。
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