[发明专利]膜厚修正板及光学直接监控镀膜设备

权利要求书

1.一种膜厚修正板，用于安装在玻璃基板的前方，其特征在于，所述膜厚修正板与所述玻璃基板间隔设置；所述膜厚修正板上开设有至少一个暴露孔，所述暴露孔用于暴露所述玻璃基板的边缘部分，以使暴露的所述边缘部分能够进行中心直接监控；所述膜厚修正板的非暴露孔部分能够在所述玻璃基板的径向方向上，将所述玻璃基板全部遮挡。

2.根据权利要求1所述的膜厚修正板，其特征在于，任意所述暴露孔均为张角为0°～360°的扇形暴露孔。

3.根据权利要求2所述的膜厚修正板，其特征在于，所述膜厚修正板为圆形修正板，所述圆形修正板的圆心和任意所述扇形暴露孔的顶点均位于所述玻璃基板的旋转轴所在直线上。

4.根据权利要求2所述的膜厚修正板，其特征在于，所述扇形暴露孔的两侧边为任意形状的曲线。

5.一种包含权利要求1～4任意一项所述膜厚修正板的光学直接监控镀膜设备，包括真空室和光学监控系统，其特征在于：

所述玻璃基板的旋转轴偏离所述真空室的中心轴设置；

所述膜厚修正板安装在所述玻璃基板的前方，所述暴露孔将所述玻璃基板的边缘部分暴露；

所述光学监控系统中形成的准直光穿过所述暴露孔，并所述与所述中心轴重合，以使所述玻璃基板暴露于所述暴露孔的边缘部分被所述光学监控系统进行中心直接监控；被所述膜厚修正板遮挡的所述玻璃基板偏离所述准直光，以被所述光学监控系统进行边缘直接监控。

6.根据权利要求5所述的光学直接监控镀膜设备，其特征在于，所述膜厚修正板通过支架安装于所述真空室的内顶壁或内侧壁。

7.根据权利要求5所述的光学直接监控镀膜设备，其特征在于，所述玻璃基片以10～1200转/分钟的转速绕所述旋转轴旋转。

8.根据权利要求5所述的光学直接监控镀膜设备，其特征在于，所述光学监控系统包括光源、光纤、与所述光纤相连的光纤准直器和探测器；所述光源和所述探测器分别位于所述真空室轴向方向的两端，所述光源发出的光耦合进所述光纤，并通过所述光纤准直器变成准直光，依次穿透所述玻璃基片和所述真空室；所述探测器用于接收穿透出所述真空室的准直光。

9.根据权利要求8所述的光学直接监控镀膜设备，其特征在于，所述光纤准直器的准直光发射方向与所述探测器的准直光接收方向垂直，所述探测器的前方设置有用于改变准直光发射路径的反射镜。

10.根据权利要求8所述的光学直接监控镀膜设备，其特征在于，所述光纤准直器的准直光发射方向与所述探测器的准直光接收方向重合，所述探测器能够直接接收穿透出所述真空室的准直光。