[发明专利]分离结构、污水储存装置和表面清洁设备

权利要求书

1.一种分离结构，其特征在于，包括：

罩体，所述罩体内形成气体流通通道，当向罩体的气体流通通道的一端施加负压时，使得气体流通通道内的气体流动；所述罩体的底部形成有开口，并使得所述罩体的底部的开口形成为气体流通通道的入口；

释放部，所述释放部能够在第一位置和第二位置之间运动，当所述释放部从第二位置运动至第一位置时，所述释放部的一端伸出至所述罩体外部，所述释放部的另一端向罩体内收缩；当所述释放部从第一位置运动至第二位置时，所述释放部的一端向罩体内收缩，所述释放部的另一端伸出至所述罩体的外部；以及

分离栏，所述分离栏可分离地设置于所述罩体；以当操作所述释放部的操作部时，使得释放部在第一位置和第二位置之间运动，当所述释放部从第一位置运动至第二位置时，允许分离结构从表面清洁设备拆卸；并且释放所述分离栏，以允许分离栏远离所述罩体；

其中，所述分离栏包括：

基体，所述基体形成有进入孔和排出孔，所述进入孔用于待分离的流体进入至所述分离栏的内部，所述排出孔用于将待分离的流体中的液体排出至所述分离栏的外部；

壁部，所述壁部的一端设置于所述基体，所述壁部的周向的两端间隔预设距离设置，以使得所述壁部和基体所形成的空间具有开口，以便待分离流体中的固体通过所述开口从所述分离栏内部移除；以及

止挡部，所述止挡部形成于所述壁部的内表面，并且从所述壁部的内表面向所述壁部的内部延伸预设距离；所述止挡部在所述基体上的投影位于所述基体的进入孔的内部；

其中，所述壁部上形成有限位孔，所述限位孔形成于所述壁部远离所述基体的一端。

2.如权利要求1所述的分离结构，其特征在于，所述进入孔位于所述壁部所形成的空间内。

3.如权利要求1所述的分离结构，其特征在于，所述壁部的外表面形成有导向块，所述导向块形成于所述壁部远离所述基体的一端。

4.如权利要求3所述的分离结构，其特征在于，所述导向块的数量为至少一个，当所述导向块的数量为两个时，两个导向块分别位于所述壁部的两个相对的侧壁。

5.如权利要求1所述的分离结构，其特征在于，所述壁部的上端通过盖部封闭。

6.如权利要求1所述的分离结构，其特征在于，所述基体的内表面上向内凸出，形成延伸部；所述延伸部形成有中心孔，所述中心孔沿所述延伸部的轴向形成，并且与所述进入孔连通。

7.如权利要求6所述的分离结构，其特征在于，所述中心孔的内径沿从上至下的方向，逐渐增加。

8.如权利要求1所述的分离结构，其特征在于，所述排出孔设置为多个。

9.如权利要求1所述的分离结构，其特征在于，所述分离栏还包括：

遮挡部，所述遮挡部用于遮挡所述开口；其中，所述遮挡部形成有多个排气孔，待分离流体中的气体通过所述排气孔排出至所述分离栏的外部。

10.如权利要求9所述的分离结构，其特征在于，所述遮挡部的排气孔为长条形孔，并且所述长条形孔沿所述遮挡部的高度方向设置。

11.如权利要求9所述的分离结构，其特征在于，所述遮挡部的下端与所述基体之间间隔预设距离。

12.如权利要求9所述的分离结构，其特征在于，所述遮挡部上沿所述遮挡部的高度方向形成有导轨槽，所述壁部上的导向块可滑动地设置于所述导轨槽内；当所述导向块在所述导轨槽内滑动时，所述遮挡部的一端和基体之间的距离被改变。

13.如权利要求12所述的分离结构，其特征在于，所述导轨槽接近所述基体的一端通过限位件封闭，以通过所述限位件限制所述基体的行程。