[发明专利]保持装置、光刻装置以及物品制造方法在审
申请号: | 202110611760.6 | 申请日: | 2021-06-02 |
公开(公告)号: | CN113759667A | 公开(公告)日: | 2021-12-07 |
发明(设计)人: | 铃木健士 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 李鹏宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 保持 装置 光刻 以及 物品 制造 方法 | ||
本发明提供保持装置、光刻装置以及物品制造方法。保持装置保持物体,其特征在于,保持装置具有:吸附部,用于真空吸附物体;多个生成部,分别与连接于吸附部的多个第1管路对应地设置,生成经由多个第1管路向吸附部供给的真空空气;泵,经由分别与多个生成部连接的多个第2管路向多个生成部供给压缩空气;第3管路,包括分别与多个第2管路连接的多个连接管路和汇集多个连接管路的汇集管路;控制阀,设置于汇集管路,通过开闭汇集管路而经由多个连接管路控制多个第2管路的大气释放;以及多个止回阀,分别设置于多个连接管路,抑制存在于多个第2管路之中的一个管路的压缩空气经由第3管路流入多个第2管路之中的其他管路。
技术领域
本发明涉及保持装置、光刻装置以及物品制造方法。
背景技术
以往使用的曝光装置由照明光学系统对原版(光罩或者掩模)进行照明,将原版的图案经由投影光学系统向基板(晶片)投影。在曝光装置所使用的基板保持装置(工作台)中,存在随着近年的基板尺寸的大型化而基板吸附用的系统数量增加的倾向,作为针对基板翘曲(形状)的对策,采用了按照每个区域来吸附基板的分割吸附方式。
一般来讲,基板保持装置如日本实开平5-39798号公报、日本特开平11-340305号公报所公开的那样,大多出于基板吸附用途而使用真空空气以及由真空产生装置生成的真空空气。在该场合,对于真空空气或送往真空产生装置的压缩空气,从吸附控制部向基板吸附部或者真空产生装置被供给,由吸附控制部内的供给阀进行真空空气或压缩空气的供给或者停止,由此进行相对于被载置在基板吸附部的基板的真空吸附或者真空释放的控制。
发明内容
发明所要解决的课题
但是,在以往技术中,在将相对于基板的真空吸附释放时,即便由吸附控制部将真空空气或压缩空气的供给停止,残留在工作台与吸附控制部之间的管内的真空空气或压缩空气也会持续向基板吸附部供给。因而,基板吸附部中的真空释放需要时间,成为导致生产率降低的主要因素。另外,也考虑为了缩短真空释放所需的时间而在各分割吸附系统中设置大气释放阀,但是,因大气释放阀的增加导致的工作台以及配管单元的大型化及成本增大就成为了课题。
本发明提供有利于缩短真空吸附物体的吸附部中的真空释放所需的时间并提高生产率的技术。
用于解决课题的方案
作为本发明的一个方面的保持装置,该保持装置保持物体,其特征在于,上述保持装置具有:吸附部,该吸附部用于真空吸附上述物体;多个生成部,该多个生成部分别与连接于上述吸附部的多个第1管路对应地设置,生成经由上述多个第1管路向上述吸附部供给的真空空气;泵,该泵经由分别与上述多个生成部连接的多个第2管路向上述多个生成部供给压缩空气;第3管路,该第3管路包括分别与上述多个第2管路连接的多个连接管路和汇集上述多个连接管路的汇集管路;控制阀,该控制阀设于上述汇集管路,通过开闭上述汇集管路,经由上述多个连接管路控制上述多个第2管路的大气释放;以及多个止回阀,该多个止回阀分别设于上述多个连接管路,抑制存在于上述多个第2管路之中的一个管路的上述压缩空气经由上述第3管路流入上述多个第2管路之中的其他管路。
作为本发明的其他方面的保持装置,该保持装置保持物体,其特征在于,上述保持装置具有:吸附部,该吸附部用于真空吸附上述物体;多个生成部,该多个生成部分别与连接于上述吸附部的多个第1管路对应地设置,生成经由上述多个第1管路向上述吸附部供给的真空空气;泵,该泵经由分别与上述多个生成部连接的多个第2管路向上述多个生成部供给压缩空气;第3管路,该第3管路包括分别与上述多个第1管路连接的多个连接管路和汇集上述多个连接管路的汇集管路;控制阀,该控制阀设于上述汇集管路,通过开闭上述汇集管路,经由上述多个连接管路控制上述多个第1管路的大气释放;以及多个止回阀,该多个止回阀分别设于上述多个连接管路,抑制存在于上述多个第1管路之中的一个管路的上述真空空气经由上述第3管路流入上述多个第1管路之中的其他管路。
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