[发明专利]一种基于银纳米团簇的新型抗菌釉料

权利要求书

1.一种抗菌釉料的制备方法，其特征在于，在银源溶液中，加入相应的保护配体，在一定温度下搅拌，再加入还原剂进行还原，搅拌反应一定时间后，合成银纳米团簇，最后将制备的银纳米团簇作为抗菌剂加入到陶瓷釉料中均匀分散，最终得到抗菌釉料。

2.如权利要求1所述的抗菌剂银纳米团簇的制备方法，其特征在于：所述银源溶液的浓度范围为1～50mmol/L，所述保护配体的浓度范围为1～200mmol/L，所述反应温度为0-100摄氏度，所述搅拌时间为0～24小时，还原剂的浓度范围为1～500mmol/L。

3.如权利要求2所述的抗菌剂银纳米团簇的制备方法，其特征在于：所述银源为硝酸银、硫酸银、碳酸银、氯化银、磷酸银、银氨溶液中的一种或几种。

4.如权利要求1所述的抗菌剂银纳米团簇的制备方法，其特征在于：所述银纳米团簇的保护配体为谷胱甘肽、半胱氨酸、巯基苯甲酸、巯基链烷酸、硫辛酸、三苯基膦、苯乙炔、叔丁基苯硫酚、环己硫醇、苯乙硫醇、苯硒醇中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的抗菌剂银纳米团簇的制备方法，其特征在于：采用的还原剂为硼氢化钠、氰基硼氢化钠、一氧化碳、抗败血酸、三乙胺硼烷、甲硼烷叔丁胺络合物中的至少一种作为还原剂用于银纳米团簇的合成。

6.如权利要求1所述的抗菌剂银纳米团簇的制备方法，其特征在于，合成银纳米团簇的溶剂为水、乙醇、甲醇、二甲基甲酰胺等溶剂中的一种或几种。

7.如权利要求1所述的抗菌釉料的制备方法，其特征在于，合成的银纳米团簇按一定比例与陶瓷釉料均匀混合搅拌1小时，获得不同银团簇载量的抗菌釉料。

8.如权利要求1所述的抗菌釉料的制备方法，其特征在于，所用的陶瓷釉料的常用成分包括SiO₂、Al₂O₃、CaO、MgO、K₂O、Na₂O、ZrO₂、BaO、ZnO、TiO₂等。

9.如权利要求8所述的抗菌釉料在陶瓷抗菌中的应用。

10.如权利要求9所述的应用，其特征在于：所述银纳米团簇基抗菌剂在抗菌釉料中的比例为1-5％。