[发明专利]一种显示面板及其制作方法有效
申请号: | 202110614042.4 | 申请日: | 2021-06-02 |
公开(公告)号: | CN113363302B | 公开(公告)日: | 2023-09-08 |
发明(设计)人: | 张久杰;季渊;潘仲光 | 申请(专利权)人: | 南京昀光科技有限公司 |
主分类号: | H10K59/12 | 分类号: | H10K59/12;H10K50/81;H10K71/60 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 211100 江苏省南*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 面板 及其 制作方法 | ||
本发明实施例提供一种显示面板及其制作方法,该显示面板包括平坦化层、像素定义层、阳极膜层和吸引层;像素定义层位于平坦化层的一侧,像素定义层包括多个开口;阳极膜层包括多个阳极金属子层,每一阳极金属子层位于对应的开口内,阳极膜层的材料包括磁性材料@Ag纳米颗粒;吸引层位于开口邻近平坦化层的一侧,吸引层包括多个吸引体;吸引体与开口一一对应,吸引体用于吸引阳极金属子层。本发明实施例提供一种显示面板及其制作方法,以磁性材料@Ag纳米颗粒形成显示面板的阳极膜层具有Ag的导电性,无需通过Clsubgt;2/subgt;干刻Ag形成带有AgCl的阳极膜层,也克服了因开口过小无法通过湿刻的工艺形成阳极膜层。
技术领域
本发明涉及显示领域,特别是涉及一种显示面板及其制作方法。
背景技术
目前,显示面板中阳极膜层的材料为Al,众所周知,Ag的导电性要优于Al,但是受工艺限制,目前无法量产使用材料Ag的阳极膜层,原因在于,1、金属刻蚀一般采用Cl2作为刻蚀气体,可得到各向异性的化学性刻蚀效果,但是利用Cl2干刻Ag的时候,Ag和Cl2会发生反应生成AgCl沉底物,导致Ag表面沉积AgCl,影响导电性能,同时也会导致腔室受到污染。2、由于显示面板的像素定义层中开口的宽度范围为2~3μm,开口过小,导致Ag的湿刻工艺无法准确控制精度,从而导致无法使用该工艺。
发明内容
本发明实施例提供一种显示面板及其制作方法,以磁性材料@Ag纳米颗粒形成显示面板的阳极膜层具有Ag的导电性,无需通过Cl2干刻Ag形成带有AgCl的阳极膜层,也克服了因开口过小无法通过湿刻的工艺形成阳极膜层。
第一方面,本发明实施例提供一种显示面板,该显示面板包括平坦化层、像素定义层、阳极膜层和吸引层;
所述像素定义层位于所述平坦化层的一侧,所述像素定义层包括多个开口;所述阳极膜层包括多个阳极金属子层,每一所述阳极金属子层位于对应的所述开口内,所述阳极膜层的材料包括磁性材料@Ag纳米颗粒;
所述吸引层位于所述开口邻近所述平坦化层的一侧,所述吸引层包括多个吸引体;所述吸引体与所述开口一一对应,所述吸引体用于吸引所述阳极金属子层。
可选的,所述吸引体在所述像素定义层的垂直投影与所述开口底部在所述像素定义层的垂直投影重合。
可选的,本发明实施例提供的显示面板还包括:像素驱动电路层,所述像素驱动电路层位于所述平坦化层远离所述像素定义层的一侧,所述像素驱动电路层包括多个像素驱动电路;
所述平坦化层包括多个通孔;所述通孔与所述开口一一对应,对应的所述通孔与所述开口相通;每一像素驱动电路通过一个通孔对应连接一个阳极金属子层;
所述吸引层位于所述平坦化层远离所述像素定义层的一侧。
可选的,所述平坦化层远离所述像素定义层的表面包括多个凹槽;所述吸引体与所述凹槽一一对应,所述吸引体位于所述凹槽内。
可选的,所述阳极膜层的材料包括Fe3O4@Ag纳米颗粒。
第二方面,本发明实施例提供一种显示面板的制作方法,该制作方法包括:
将磁性材料@Ag纳米颗粒融入第一溶液形成第二溶液;
提供一基板,其中,所述基板包括平坦化层、像素定义层和吸引层;所述像素定义层位于所述平坦化层的一侧,所述像素定义层包括多个开口;所述吸引层位于所述开口邻近所述平坦化层的一侧,所述吸引层包括多个吸引体,所述吸引体与所述开口一一对应,所述吸引层用于吸引所述磁性材料@Ag纳米颗粒;
将所述第二溶液沉积到所述开口内;
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