[发明专利]一种高导电高耐候改性纳米铜工艺

权利要求书

1.一种高导电高耐候改性纳米铜工艺，其特征在于，包括如下制备步骤：

S101：将固定比例的L-半胱氨酸、低聚聚酰胺、对甲苯酸酸水化合物混入甲苯中，并进行油浴处理，得低聚物聚酰胺-L-半胱氨酸配体；

S102：按照比例将纳米铜粉分散在乙醇溶液中，并加入低聚物聚酰胺-L-半胱氨酸配体进行搅拌，使其对纳米铜粒子进行表面改性，并经通风挥发及烘干制备成块状改性纳米铜；

S103：采用精密球磨机对进行块状改性纳米铜精密研磨处理，经筛分装置筛分以提高改性纳米铜粒径均匀度，制备高纯度超细均匀改性纳米铜粉末。

2.根据权利要求1所述的一种高导电高耐候改性纳米铜工艺，其特征在于，所述S101中L-半胱氨酸、低聚聚酰胺、对甲苯酸酸水化合物混入甲苯中后进行油浴的温度为100℃-260℃，且油浴的时间为2H-2.5H。

3.根据权利要求1所述的一种高导电高耐候改性纳米铜工艺，其特征在于，所述S101中L-半胱氨酸、低聚聚酰胺、对甲苯酸酸水化合物按照1∶1∶1、1∶2∶1和1∶1∶2比例进行配置。

4.根据权利要求1所述的一种高导电高耐候改性纳米铜工艺，其特征在于，所述S102中纳米铜粉和乙醇溶液按照1∶1、1∶2和2∶1比例进行配置。

5.根据权利要求4所述的一种高导电高耐候改性纳米铜工艺，其特征在于，所述纳米铜粉和乙醇溶液在200-500r/min转速下机械搅拌至分散均匀，搅拌的时间为30min-45min。

6.根据权利要求1所述的一种高导电高耐候改性纳米铜工艺，其特征在于，所述加入低聚物聚酰胺-L-半胱氨酸配体进行搅拌的时候使得配置而成的溶液形成纳米铜的乙醇悬浮液即可。