[发明专利]用于脉冲激光沉积的装置

权利要求书

1.一种用于脉冲激光沉积的装置，所述装置包括具有基板表面的基板和具有靶表面的靶，所述装置还包括：

-基板保持器，用于保持基板；

-靶保持器，用于保持靶，其中，所述靶表面面对基板表面；

-速度过滤器，所述速度过滤器布置在基板保持器和靶保持器之间，所述速度过滤器包括大致盘形的旋转本体，所述旋转本体具有旋转轴线，并具有至少一个过滤器通道开口，所述过滤器通道开口从旋转本体的一个轴向表面延伸至另一轴向表面；以及

-脉冲激光，脉冲激光在靶点处引导至靶上，用于产生靶材料的等离子体羽流，其中，在靶点处的靶表面面对基板表面，

其中，当沿与靶点处的靶表面垂直的方向看时，所述至少一个过滤器通道开口的通路与靶点重合，

其特征在于：

至少一个过滤器通道开口沿平行于旋转本体的旋转轴线的方向从靶至基板渐缩。

2.根据权利要求1所述的装置，其中：相对于旋转本体的旋转轴线，过滤器通道开口沿旋转本体的旋转方向的上游壁部分的锥角小于过滤器通道开口的下游壁部分的锥角。

3.根据权利要求2所述的装置，其中：上游壁部分的锥角在35°和55°之间，优选是45°。

4.根据权利要求2或3所述的装置，其中：下游壁部分的锥角在上游壁部分的锥角和65°之间，优选是在55°与65°之间，且更优选是58.5°。

5.根据前述任意一项权利要求所述的装置，其中：渐缩的至少一个过滤器通道开口的长度是至少20mm，优选是至少32mm。

6.根据前述任意一项权利要求所述的装置，其中：当沿旋转轴线的方向看时，过滤器通道开口具有基本矩形的横截面。

7.根据前述任意一项权利要求所述的装置，其中：所述至少一个过滤器通道开口设置为沿所述大致盘形的旋转本体的周向壁的槽道。

8.根据前述任意一项权利要求所述的装置，其中：旋转本体设置有至少两个过滤器通道开口，所述至少两个过滤器通道开口在离旋转轴线相同的径向距离处，其中，所述至少两个过滤器通道开口沿旋转本体的周边均匀地分布。

9.根据前述任意一项权利要求所述的装置，其中：对于所述至少一个过滤器通道开口中的每一个，激光通道开口设置在旋转本体中，激光通道开口布置在延伸于旋转轴线和相应过滤器通道开口之间的径向线上。